折射微透镜制备中离子束刻蚀过程的计算机模拟  

Computer Simulation of Ion Beam Etching Process in Fabricating Refractiue Microlens

作　　者：陈长虹[1] 易新建[1] 赵兴荣[1] 

机构地区：[1]华中理工大学光电子工程系,武汉430074

出　　处：《微细加工技术》2000年第2期34-38,33,共6页Microfabrication Technology

摘　　要：建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型 ,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程。通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射状态下所得到的折射微透镜的截面轮廓 ,为优化离子束的刻蚀工艺奠定基础 ,同时也可以确定刻蚀过程的终点时刻。The ion beam etching process in fabricating refractiue microlens is simulated by setting up the etching model of Argonion beam to resist microlens. Through simulation the profiles of refractiue microlens obtained in the different ion beam incident angles can be predicted, which is the basis for optimizing the ion beam etching process and determine the end time of etching process.

关 键 词：微光学折射 微透镜 离子束刻蚀 计算机模拟 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]