芯片凸点的几种工艺制造方法  

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作  者:韦柳青[1] 唐勇[1] 

机构地区:[1]信息产业部电子24所

出  处:《电子元器件应用》2000年第4期14-18,共5页Electronic Component & Device Applications

摘  要:本文介绍了目前通常的几种芯片凸点制造方法,其中对焊料合金球凸点,物理化学淀积金属凸点,金丝球焊形成金凸点等作了一些工艺分析和适用分析。

关 键 词:芯片 凸点 焊接 工艺制造方法 集成电路 

分 类 号:TN405.93[电子电信—微电子学与固体电子学]

 

参考文献:

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引证文献:

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