离子注入对小麦生长发育的效应  

THE MUTAGENIC EFFECT ON PLANT GROWTH BY ION IMPLANTATION ON WHEAT

作　　者：杨赞林[1] 甘斌杰[1] 金陵[1] 张少华[1] 沈正兴 余增亮[2] 何建军[2] 邓建国[2] 

机构地区：[1]安徽省农业科学院作物研究所 [2]中国科学院等离子体物理研究所

出　　处：《安徽农学院学报》1991年第4期282-288,共7页

基　　金：国家自然科学基金

摘　　要：本文就离子注入对不同小麦品系出苗、苗期性状及植株生长发育的诱变效应进行了研究。结果表明,离子注入小麦种子后,对三个品系的效应有所不同,其半致死剂量约在60—80次之间。The mutagenic effect on plant growth by ion implantation on differentwheat lines was studied in Hefei. The results showed different effects ondry seed of 3 wheat lines and the semilethal dosage was between 60 and 80times.

关 键 词：小麦 生长发育 离子注入 诱变育种 

分 类 号：S512.103.5[农业科学—作物学]