Mo_2C膜表面快速粗糙化现象研究  

RAPID ROUGHENING OF Mo_2C FILM SURFACE

作　　者：郑瑞伦[1] 冉扬强[1] 陈洪[1] 平荣刚[2] 

机构地区：[1]西南师范大学物理系,重庆400715 [2]中国科学院高能物理研究所,北京100039

出　　处：《物理学报》2000年第7期1335-1343,共9页Acta Physica Sinica

摘　　要：介绍了Mo2 C膜表面粗糙度的测量结果 ,引入晶粒边界修正 ,对Mo2 C膜的表面快速粗糙化现象给予理论解释 .The roughness of Mo\-2C film surface is measured and the results are given.By introduction of crystalline boundary correction,the rapid roughening phenomenon is explained theoretically.

关 键 词：MO2C膜 快速粗糙化 粗糙化指数 

分 类 号：O484[理学—固体物理]