MO2C膜

作品数：5被引量：5H指数：1
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Mo_2C膜脱附激活能随沉积温度的变化规律
《重庆大学学报（自然科学版）》2005年第4期106-109,共4页郑瑞伦 张浩波 
国家自然科学基金资助项目(10147207)
介绍了用金属有机气相沉积(MOCVD)制备Mo2C膜的过程和对膜的颗粒粒径的测量结果,建立物理模型,导出粒子脱附激活能的计算公式,探讨了Mo2C膜的脱附激活能随沉积温度的变化。结果表明:沉积温度低于380℃时,Mo2C膜的脱附激活能随温度升高...
关键词：MO2C膜 脱附激活能 沉积温度 
Mo_2C膜电阻率的研究
《西南师范大学学报（自然科学版）》2002年第2期170-173,共4页刘俊 马小娟 郑瑞伦 
介绍了Mo2 C膜的制备过程和对其电阻率的测量结果 ,探索了其导电机理以及沉积时间、基底温度和生长过程对电阻率的影响 .利用Gibbs函数极小的原理探索了膜中Mo原子的含量随温度的变化规律 ,并对电阻率随温度的变化规律给予了解释 .结果...
关键词：MO2C膜 电阻率 四探针法 沉积时间 基底温度 碳化钼膜 
Mo_2C膜表面粗糙度随温度和时间变化规律的研究
《西南师范大学学报（自然科学版）》2002年第1期64-68,共5页章娴君 王显祥 罗玲 郑瑞伦 
教育部科技攻关资助项目 9710 2
对以羰基金属气相沉积制备的Mo2 C膜表面粗糙度进行了测量 ;在测量基础上进行统计 ,找出了表面高度分布并确定表面粗糙度随时间和温度的变化规律 .结果表明 :Mo2 C膜表面粗糙化属快速粗糙化 ,粗糙度随时间的变化具有标度函数的特征 ;
关键词：MO2C膜 高度分布 表面粗糙度 温度 时间 变化规律 
Mo_2C膜表面粗糙化规律的计算机模拟被引量：1
《Chinese Journal of Chemical Physics》2000年第4期461-467,共7页冉扬强 郑瑞伦 陈洪 平荣刚 吕弋 
引入晶粒边界修正，改进了Ｍｏ２Ｃ膜表面粗糙化物理模型，将ＤＴ２模型推广到包括有温度的情况，对Ｍｏ２Ｃ膜表面形态进行计算机模拟并统计模拟图的高度分布，确定表面粗糙度随沉积时间和基底温度的变化规律。结果表明：引入晶粒边界...
关键词：MO2C膜 计算机模拟 表面粗造度 表面形态 
Mo_2C膜表面快速粗糙化现象研究被引量：5
《物理学报》2000年第7期1335-1343,共9页郑瑞伦 冉扬强 陈洪 平荣刚 
介绍了Mo2 C膜表面粗糙度的测量结果 ,引入晶粒边界修正 ,对Mo2 C膜的表面快速粗糙化现象给予理论解释 .
关键词：MO2C膜 快速粗糙化 粗糙化指数 
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