软X光激光In衰减膜的制备及测量  

Preparation and Surface Research of Indium Soft X-ray Laser Attenuation Foil

作　　者：顾牡[1] 汤学峰[1] 吴广明[1] 陈玲燕[1] 

机构地区：[1]同济大学玻耳固体物理研究所,上海200092

出　　处：《同济大学学报（自然科学版）》2000年第3期312-315,共4页Journal of Tongji University:Natural Science

基　　金：青年激光技术基金资助项目 ;国家 86 3基金资助项目

摘　　要：通过对制备工艺的摸索 ,制备出用于软X光激光实验的In衰减膜 ;利用α能谱测厚仪对In衰减膜的质量厚度进行了测量 ;通过俄歇电子谱并结合Ar离子刻蚀对In膜表面氧化及氧元素质量分数的深度分布进行了分析 .Through the study of the technology, the attenuation indium foil for soft X-ray laser experiment was fabricated. The mass thickness of the In attenuation foil was measured by a vacuum α thickness measurement apparatus. The surface oxidizing of indium attenuation foil was studied through Auger electronic spectrum combined with Ar ion beam etching.

关 键 词：俄歇电子谱 软X光激光 铟衰减膜 厚度测量 制备 

分 类 号：O484.1[理学—固体物理] TN249[理学—物理]