一种研磨抛光机供液系统的设计  

作　　者：郑森伟[1,2] 刘伟[2] 王伟[2] 孙德红[2] 

机构地区：[1]华侨大学机电学院 [2]闽南理工学院

出　　处：《湖北广播电视大学学报》2013年第5期158-159,共2页Journal of Hubei Radio & Television University

基　　金：福建省教育厅科技项目(JA12366);石狮市科技计划项目(2011SD04);泉州市科技计划项目(2011Z27)

摘　　要：本文针对一种研磨抛光机进行供液系统的设计与研究。通过给回流抛光液提供动力,使抛光液在回流到抛光液容器中把抛光液中的沉淀物搅拌起来,达到回流抛光液自搅拌的效果。并通过可调压无阀门缓冲装置把抛光液经过一次冲刷缓冲,实现抛光液的在缓冲筒内搅拌并通过简单调节进行供液速度调控。通过本供液系统的设计可提高抛光液混合的均匀性,对抛光质量与效率起到一定的作用。

关 键 词：抛光液 供液系统 自搅拌 可调压 

分 类 号：TG580.692[金属学及工艺—金属切削加工及机床]