抛光液

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钴化学机械抛光中抛光液及清洗剂的研究进展
《材料导报》2025年第6期222-231,共10页张力飞 路新春 张佳磊 赵德文 
国家自然科学基金(51991374)。
在当今集成电路技术飞速发展的时代背景下,随着工艺节点不断缩小至纳米级,互连结构及其工艺技术的挑战愈发严峻。钴(Co)作为一种新兴的金属材料,凭借其出色的热稳定性、优异的空隙填充能力和对铜(Cu)布线的强附着力,正逐步成为Cu互连阻...
关键词：化学机械抛光 钴 阻挡层 互连层 抛光液 清洗剂 
具有高悬浮稳定性二氧化铈抛光液的制备
《纳米技术》2025年第1期1-7,共7页薛俊杰 李思敏 沈慧 
本研究受国家重点研发计划(2023YFB3507100)、内蒙古自治区高校青年科技人才计划(NJYT23035)和内蒙古大学创业基金(10000-23112101/043)的资助。
随着集成电路行业的快速发展,电子产品不断向多样化和微型化的方向发展,这对半导体制造的核心材料单晶硅提出了严苛的要求。传统的硅晶片加工技术在尺寸精度和表面平整度方面已经很难满足当前日益复杂和高度集成化的芯片制造需求。化学...
关键词：二氧化铈 表面改性 高悬浮性 咪唑-2-甲酸 三价铈含量 
电子产品制造过程中CMP材料的应用研究
《电子产品世界》2025年第3期21-24,共4页刘海军 
化学机械抛光(chemical mechanical polishing,CMP)是半导体制造工艺中实现晶圆表面平坦化的关键技术,广泛应用于先进制程的生产。通过结合化学反应和机械磨削,CMP工艺能够去除晶圆表面材料,使晶圆表面实现高精度平坦化。从CMP工艺的基...
关键词：化学机械抛光 抛光垫 抛光液 去除速率 表面粗糙度 
碳化硅衬底化学机械研磨机理
《电子工业专用设备》2025年第1期21-27,共7页罗付 蔡长益 潘宏明 詹阳 
化学机械平坦化(CMP)作为能够实现局部和全局平坦化的唯一方法,被广泛应用于碳化硅衬底加工中,其成本在碳化硅衬底加工中占30%~40%[1]。抛光液作为化学机械平坦化的主要耗材之一,不同抛光液的选取对平坦化的效果不同。为此针对不同磨料...
关键词：碳化硅 化学机械平坦化 抛光液 抛光垫 修整器 
适用于SJ5-2光学镜片抛光的铈-稀土抛光液的配制
《光电技术应用》2025年第1期27-32,57,共7页卢宏炎 张明轩 华显立 杜雨洁 周朋洋 
SJ5-2是一种为开发双焦镜片研制的火石(F)类新型光学材料,这种材料质软、化学稳定性差,在抛光时表面疵病难以解决,且面型精度不稳定。通过分析抛光液对抛光性能影响因素,经过长时间的材料配比试验,最终确定了一种独特的适用于SJ5-2光学...
关键词：光学玻璃 抛光液 添加剂 抛光性能 
电芬顿CMP抛光液中磨粒的分散性研究及中性环境下绿色抛光液的设计
《金刚石与磨料磨具工程》2025年第1期113-121,共9页成锋 王子睿 朱睿 王永光 彭洋 张天宇 赵栋 樊成 
国家自然科学基金(52375458,51775360,51501121,U1533101);中国博士后科学基金(2015M571800);江苏省博士后科学基金(1402121C);江苏省研究生科研与实践创新计划项目(KYCX23_3236)。
芬顿反应是一种能产生强氧化性羟基自由基(·OH)的绿色氧化反应,选用三聚磷酸钠(STPP)为外加电解质、金刚石为磨粒,比较STPP、NaCl和Na_(2)SO_(4)对芬顿反应中金刚石磨粒分散稳定性的影响,并研究该绿色抛光液在不同pH值下对电芬顿抛光...
关键词：芬顿反应 电化学机械抛光 金刚石磨粒分散 三聚磷酸钠 GaN 
二乙烯三胺对硅片化学机械抛光速率的影响
《润滑与密封》2025年第1期138-143,共6页杨啸 王辰伟 王雪洁 王海英 张新颖 杨云点 盛媛慧 
河北省自然科学基金项目(E2019202367)。
为提高硅衬底化学机械抛光(CMP)的去除速率,在硅衬底抛光液中添加哌嗪(PZ)、二乙烯三胺(DETA)、三乙烯四胺(TETA)、乙醇胺(MEA)4种胺类化合物,对比其对硅片抛光速率促进效果。结果表明,4种胺类化合物对硅片抛光速率的促进作用由高到低...
关键词：化学机械抛光 抛光液 二乙烯三胺 硅衬底 抛光速率 
CMP抛光液,国产之路走到了哪儿?
《中国粉体工业》2024年第6期44-46,共3页
化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)技术被誉为是当今时代能实现集成电路(IC)制造中晶圆表面全局平坦化的目前唯一技术,化学机械抛光的效果直接影响到芯片最终的质量和成品率。通过抛光液中化学试剂的化学腐蚀和机械磨削...
关键词：抛光效果 化学机械抛光 机械磨削 抛光液 化学腐蚀 化学试剂 全局平坦化 表面缺陷 
光学玻璃CMP用LaCePr抛光液制备及其组织和性能
《金刚石与磨料磨具工程》2024年第6期816-824,共9页张全鑫 李虎平 史俊龙 宿爱 陈贵青 谢浩 金玉培 胡广寿 
以包头混合型稀土矿经浓硫酸强化焙烧、水浸、中和除杂、P507萃取转型分级的产物为原料配制LaCe-Pr氯化液,以碳酸氢铵和氨水的混合液为沉淀剂,氢氟酸为氟化剂,聚丙烯酸钠、六偏磷酸钠、氢氧化钠等为添加助剂,通过并流沉淀、氟化、高温...
关键词：化学机械抛光 光学玻璃 抛光液 制备 组织和性能 
废磷酸脱铝技术的研究进展
《化工技术与开发》2024年第11期82-86,共5页吴志宇 李秋美 梁兰 黎建平 
磷酸是一种重要的化工原料,常用于铝的化学抛光处理以及铝合金等金属的表面处理。铝离子在溶液中不断积累,进而改变化学抛光液的组成和性质,并形成含铝废磷酸。磷酸也用于蚀刻铝制零部件的铝箔层和显示面板的铝层以溶解氧化铝,因此也会...
关键词：铝离子 废磷酸 化学抛光液 蚀刻液 资源回收 
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