用于X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶  

Aluminum Grating Target Used in XUV Radiograph System

作　　者：徐平[1] 陆卫昌[1] 周斌[1] 王珏[1] 

机构地区：[1]同济大学玻耳固体物理研究所,上海200092

出　　处：《同济大学学报（自然科学版）》2000年第5期572-574,共3页Journal of Tongji University:Natural Science

基　　金：国家863惯性约束聚变领域资助项目!( 863-4 1 6-3-9)

摘　　要：介绍用热蒸发结合光刻技术以及离子束刻蚀或热磷酸腐蚀的方法 ,制备用于测量X光成像系统像传递函数的Al静态成像靶的工艺 .对两种腐蚀工艺进行了比较 ,确定离子束刻蚀是获得所需图形的理想方法 .经扫描电镜 (SEM)和台阶仪测量 ,Al静态成像靶的参数满足实验要求 .Preparation of aluminum grating target used in XUV radiograph system by means of evaporation, light-chisel and ion beam etching, or phosph-acid crrosiveness is introduced. Comparison of these two techniques, ion beam etching, and phosph-acid crrosiveness, shows that ion beam etching is the correct way to get the Aluminum Grating Target. And the conclusion is supported by measure of Scan Electron microscope and α-step apparatus.

关 键 词：静态成像靶 热蒸发 光刻技术 X光成像系统 

分 类 号：O532[理学—等离子体物理] TN201[理学—物理]