不同pH值环境下义齿支架金属耐腐蚀性比较  

作　　者：杜华丽[1] 韩建国[1] 刘依林 宋文婷[1] 林映荷[3] 

机构地区：[1]徐州医学院口腔医学院,江苏徐州221004 [2]四川大学华西临床医学院,四川成都610041 [3]四川大学华西口腔医学院,四川成都610041

出　　处：《徐州医学院学报》2013年第5期314-316,共3页Acta Academiae Medicinae Xuzhou

摘　　要：目的探讨2种pH值环境下钴铬合金、含钛镍铬合金、纯钛3种活动义齿常用支架金属的电化学腐蚀性能，为临床选择支架材料提供参考。方法以pH值6．75和5．5的人工唾液模拟13腔环境，使用电化学方法、X射线衍射仪获得3种金属腐蚀前后的电化学参数、物相数据，比较三者的耐腐蚀性和表面稳定性。结果2种pH值环境下，含钛镍铬合金和钴铬合金记录到典型的Tafel曲线，而纯钛未能获得。含钛镍铬合金的腐蚀电位值明显负于钴铬合金，腐蚀电流更大，差异有统计学意义（P〈0．05）。三者的衍射图腐蚀前后皆一致，无物质结构改变。结论含钛镍铬合金的电化学腐蚀倾向最大，钴铬合金较小，纯钛最稳定。

关 键 词：义齿 电化学 腐蚀 人工唾液 金属 PH值 

分 类 号：R783.1[医药卫生—口腔医学]