磁控溅射法沉积ITO薄膜及其透过率分析  

作　　者：李庆[1] 曹思凡[1] 

机构地区：[1]中国地质大学能源学院,北京100083

出　　处：《中国科技纵横》2013年第14期102-102,共1页China Science & Technology Overview

摘　　要：采用磁控溅射法，在室温，溅射功率为80w的条件下，选取不同的压强，在石英玻璃和聚酯薄膜（PET）底上分别制成了高透过率的ITO薄膜，并进行了性能对比，并得出柔性衬底的性能最优时的压强范围。

关 键 词：ITO薄膜 磁控溅射法 PET 

分 类 号：O484.43[理学—固体物理]