利用光学移相技术进行精确对准  

作　　者：徐一平[1] 刘恩荣 

机构地区：[1]加州大学

出　　处：《电子工业专用设备》1991年第2期50-55,共6页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：己开发出一种利用光学移相、傅里叶交换和空间滤波技术,使基片上的对称图形与中间掩模上的移相图形套准的新型精密对准技术。这两个标记之间的对准是用检测基片对准标记反射光的零阶空间频率先强的最小值点来确定的。此最小值是因两对准标记共心时相位将完全抵消而形成的。所进行的理论分析知计算机模拟证明,这种技术不受对准标记图形线宽和台阶高度变化的影响,也不因制有对准标记的基片材料的光学特征变化而变化。初步实验结果与计算值相当一致。从而证明,这种技术不存在利用栅光图形和检测干涉条纹图像这些技术中所存在的模糊问题。现有结果表明,这种技术的套刻精度可优于0.1μm。

关 键 词：集成电路 制造 对准 光学移相 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]