刘恩荣

作品数：5被引量：2H指数：1
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移相掩模技术及其发展前景被引量：1
《电子工业专用设备》1992年第4期30-39,共10页刘恩荣 
移相掩模技术的出现和在高密度微电子器件研制中的成功应用,是近几年来光学微细加工技术发展的最主要成果。本文在具体介绍移相掩模基本原理、结构工艺改进以及最新应用成果的基础上,展望了光学微细加工技术的发展前景。并指出,在大力...
关键词：光学微细加工 移相掩模 掩模 发展 
光学光刻在军事微电子器件制造中的作用和地位
《电子工业专用设备》1992年第3期8-12,共5页刘恩荣 
光学微细加工技术或称光学技术,是促成集成电路微电子器件的诞生与不断进步的主要微细加工手段。无论是过去还是现在,国外始终都对光学光刻技术设备的发展寄予极大希望与重视,而且在当前通用和军用微电子器件研制、生产中。
关键词：微电子技术 光刻 微电子器件 军事 
利用光学移相技术进行精确对准
《电子工业专用设备》1991年第2期50-55,共6页徐一平 刘恩荣 
己开发出一种利用光学移相、傅里叶交换和空间滤波技术,使基片上的对称图形与中间掩模上的移相图形套准的新型精密对准技术。这两个标记之间的对准是用检测基片对准标记反射光的零阶空间频率先强的最小值点来确定的。此最小值是因两对...
关键词：集成电路 制造 对准 光学移相 
移相掩模为光学微细加工技术增添新武器
《电子工业专用设备》1991年第2期1-8,共8页刘恩荣 
通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术的主张。
关键词：光学 微细加工 移相掩模 掩模 加工 
充满活力的光学微细加工技术被引量：1
《电子工业专用设备》1990年第2期1-12,共12页刘恩荣 
本文简要评述了近年来国外光学微细加工技术的最新进展。常规光学曝光己可满足16MDRAM生产的要求;准分子激光曝光有能力实现64M甚至256MDRAM生产;宽带步进扫描曝光机和激光图形制作系统也在集成电路制造中显示了强大实力。九十年代仍将...
关键词：光学 微细加工 光刻 半导体器件 
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