移相掩模

作品数：21被引量：22H指数：3
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采用移相掩模技术制作深亚微米“T”型栅
《微纳电子技术》2010年第6期372-375,共4页杨中月 付兴昌 宋洁晶 孙希国 
介绍了在GaAs器件制作中,如何提高光刻细线条加工能力、制作深亚微米"T"型栅的工艺技术。该技术采用投影光刻和负性化学放大光刻胶,制作出0.18μm的"T"型栅GaAs PHEMT器件,栅光刻工艺采用了分辨率增强移相掩模技术。根据曝光工具简单介...
关键词：深紫外光刻 负性化学放大胶 “T”型栅 移相掩模技术 分辨率增强技术 砷化镓PHEMT 
侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期340-342,共3页谢常青 刘明 陈宝钦 叶甜春 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60376020)
提出了一种全新的移相掩模--侧墙铬衰减型移相掩模(SCAPSM),相对于通常的衰减型移相掩模,其制造工艺仅多两步,却可以较大幅度提高光刻分辨率.采用PROLITH光学光刻模拟软件,参考ArF步进扫描投影光刻机TWINSCAN XT:1400E的曝光参数,对侧...
关键词：193nm光学光刻 衰减型移相掩模 离轴照明 数值孔径 PROLITH 
成品率驱动的光刻校正技术被引量：1
《半导体技术》2005年第6期10-13,共4页王国雄 
国家自然基金资助项目(90207002);国家高新技术研究发展计划资助项目(2002AA1Z1460)
光刻校正技术已成为超深亚微米下集成电路设计和制造中关键的技术。简要介绍了几种典型的光刻校正技术的基本原理以及在IC设计中使用这些技术需要注意的问题,为可制造性设计提供有价值的指导。
关键词：光刻 光学邻近校正 移相掩模 可制造性设计 
基于模型的光学校正系统的设计与实现被引量：6
《浙江大学学报（工学版）》2004年第5期521-524,548,共5页王国雄 严晓浪 史峥 陈志锦 
国家自然科学基金资助项目(60176015).
为了使光刻结果更好地符合版图设计,保证在硅片上制造出的电路在功能上与设计电路一致,提出了一种对掩模进行自动补偿的系统性技术.根据光刻机和光刻胶特性,模拟了实际的光刻过程.校正处理的核心是基于模型的掩模图形优化模块,通过调用...
关键词：光刻模拟 光学邻近校正 移相掩模 
光学光刻的波前工程被引量：3
《电子工业专用设备》2003年第5期50-52,共3页翁寿松 
介绍了国内研究光学光刻波前工程的一些成果,如新型移相掩模、投影光刻的邻近效应和掩模加工的邻近效应的组合模拟等。
关键词：光学光刻 波前工程 移相掩模 光学邻近效应校正 
100nm分辨率的移相掩模技术被引量：4
《微细加工技术》2003年第4期27-32,共6页陆晶 陈宝钦 刘明 王云翔 龙世兵 李泠 
国家自然基金资助项目(60376020)
介绍了移相掩模技术的基本原理,对几种主要的移相掩模技术进行了比较,指出了各种移相方式的特点和应用局限性,并针对100nm分辨率的技术节点,阐述了各种移相方式在应用中应该解决的问题。
关键词：分辨率 移相掩模 二元掩模 光刻 交替式 衰减式 
用于T形栅光刻的新型移相掩模技术被引量：2
《微纳电子技术》2002年第5期37-40,共4页韩安云 王育中 王维军 张 倩 田振文 樊照田 陈宝钦 崔 铮 
根据移相掩模基本原理,通过光刻工艺模拟提出了一种适于T形栅光刻的新型移相掩模技术——M-PEL。初步实验证明,M-PEL技术可在单层厚胶上经一次光刻形成理想的T形栅抗蚀剂形貌。
关键词：光学光刻 移相掩模 T形栅 M-PEL 
下一代光学掩模制造技术被引量：3
《微电子技术》2000年第6期1-4,共4页谢常青 
尽管其它光刻技术在不断快速发展，然而在０．１３μｍ及０．１３μｍ以下集成电路制造水平上，光学光刻仍然具有强大的生命力。随着光学光刻极限分辨率的不断提高，当代光学掩模制造技术面临着越来越严重的挑战。本文对下一代光学掩模...
关键词：光学光刻 光学邻近效应 移相掩模 光学掩模 制造技术 
深亚微米光学光刻工艺技术被引量：2
《电子工业专用设备》2000年第3期8-12,共5页谢常青 
光学光刻的生命力仍然在不断延续 ,即使在 0 13 μm及 0 13 μm以下集成电路制造水平上 ,光学光刻仍然是一个非常重要的候选者。深亚微米光学光刻工艺技术目前面临着越来越严重的挑战。对深亚微米光学光刻中的一些关键工艺技术如移相...
关键词：移相掩模 光学邻近效应 远紫外光刻胶 对准 
制版、光刻、腐蚀与掩模工艺
《电子科技文摘》2000年第4期38-38,共1页
0005792改进定标曝光场的对准精度[刊,译]//电子工业专用设备.—1999,(4).—51～56(A)00057930.30μmi 线光刻的精确套准控制[刊.译]//电子工业专用设备.—1999,(4),—42～46(A)
关键词：专用设备 电子工业 光学光刻技术 对准精度 腐蚀 移相掩模技术 制版 工艺 定标 极紫外光刻技术 
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