PROLITH

作品数:8被引量:5H指数:1
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相关领域:电子电信机械工程理学更多>>
相关作者:李艳秋张飞崔立红黄国胜刘明更多>>
相关机构:中国科学院复旦大学中国科学院微电子研究所中国科学院研究生院更多>>
相关期刊:《微细加工技术》《中国集成电路》《电子工业专用设备》《Journal of Semiconductors》更多>>
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KLA—Tencor推出PROLITH(TM)X3.1光刻模拟软件
《电子与封装》2010年第3期45-46,共2页
2月19日专为半导体和相关产业提供制程控制及成品率管理解决方案的全球领先供应商KLA.Tencor公司推出了他们最新一代的PROLITH光刻模拟软件。PROLITHX3.1让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速且极具成本效益...
关键词:模拟软件 KLA 光刻 制程控制 设备制造商 相关产业 芯片厂商 图像合成 
KLA—Tencor推出PROLITH(TM)X3.1光刻模拟软件
《中国集成电路》2010年第3期7-7,共1页
KLA—Tencor公司推出了他们最新一代的PROLITH光刻模拟软件。PROLITHX3.1让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速日一极具成本效益地解决EUV和两次图像合成光刻(DPL)制程中的挑战性问题,包括线边粗糙度(LER...
关键词:模拟软件 KLA 光刻 研发机构 设备制造商 芯片厂商 图像合成 成本效益 
KLA—TENCOR推出PROLITH^TM 12
《中国集成电路》2008年第10期5-5,共1页
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITH^TM 12,这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线(EUV)光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。...
关键词:KLA EUV光刻 光刻材料 研发机构 成本效益 研究人员 制造商 紫外线 
浸没式ArF光刻最新进展被引量:3
《电子工业专用设备》2006年第3期27-35,共9页李艳秋 
国家863项目;973项目(No.2003CB716204.)的资助
简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题,在跟踪报道国内外最新研究进展的同时,介绍前沿光刻技术的研发特点和研究手段,强调协同设计研究的重要地位,并揭示浸没式ArF光刻不是干式ArF光刻的简单移置和延续。
关键词:浸没式ARF光刻 下一代光刻 PROLITH MicroCruiser 分辨率增强 
侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期340-342,共3页谢常青 刘明 陈宝钦 叶甜春 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60376020)
提出了一种全新的移相掩模--侧墙铬衰减型移相掩模(SCAPSM),相对于通常的衰减型移相掩模,其制造工艺仅多两步,却可以较大幅度提高光刻分辨率.采用PROLITH光学光刻模拟软件,参考ArF步进扫描投影光刻机TWINSCAN XT:1400E的曝光参数,对侧...
关键词:193nm光学光刻 衰减型移相掩模 离轴照明 数值孔径 PROLITH 
离轴照明对ArF浸没式光刻的影响被引量:1
《微细加工技术》2005年第1期43-47,57,共6页黄国胜 李艳秋 张飞 
中国科学院"引进国外杰出人才"2001年资助项目(2001年度);863IC装备专项(SSPC (03) 11 01)
研究了离轴照明对65nm分辨率ArF浸没式光刻的影响。在3/4环形照明和3/4四极照明方式下,研究65nm线宽的密集线条、半密集线条、孤立线条在较大曝光系统参数范围内的光刻性能,并对不同照明方式的光刻性能进行了比较。结果表明,在可用焦深(...
关键词:离轴照明 ArF浸没式光刻 仿真 PROLITH 
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