下一代光刻

作品数：42被引量：148H指数：7
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相关作者：李艳秋陈宝钦丁玉成李涤尘刘红忠更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院微电子研究所西安交通大学中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
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光刻技术六十年被引量：20
《激光与光电子学进展》2022年第9期508-528,共21页陈宝钦 
当今世界离不开信息产业,信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术,即微电子技术。集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术。光刻技术开始于1958年美国德克萨斯公司试制的世界上第一块平面集成电路,在短短的60年中,光刻分辨率极...
关键词：光刻技术 光学分辨率增强技术 下一代光刻 微纳米加工技术 
光刻胶材料发展状况及下一代光刻技术对图形化材料的挑战被引量：5
《新材料产业》2018年第12期43-47,共5页李冰 马洁 刁翠梅 孙嘉 李海波 
一、背景光刻胶是制造集成电路的关键材料,其性能直接影响到集成电路芯片上的集成度、运行速度及功耗等性能。在摩尔定律的推动下,集成电路芯片集成度不断提高,光刻胶技术也不断发展,经历了宽谱光刻胶、G/I线光刻胶、248nm光刻胶、193n...
关键词：下一代光刻技术 材料发展 光刻胶 图形化 集成电路芯片 芯片集成度 运行速度 摩尔定律 
下一代光刻技术
《科技与企业》2015年第13期210-210,共1页仲冠丞 
本文从多方面对下一代光刻技术做了介绍和分析,重点描述了纳米压印光刻技术、极紫外光刻技术、无掩模光刻技术、原子光刻技术、电子束光刻技术等的原理、现状和优缺点,并展望了未来数十年的主流光刻技术。
关键词：下一代光刻技术 纳米压印光刻技术 极紫外光刻技术 无掩模光刻技术 原子光刻技术 电子束光刻技术 
光刻与微纳制造技术的研究现状及展望被引量：12
《微纳电子技术》2012年第9期613-618,636,共7页周辉 杨海峰 
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(JX111742);国家自然科学基金资助项目(51105360);江苏省自然科学基金资助项目(BK2011218);江苏省光子制造科学与技术重点实验室开放基金资助项目(GZ200905)
首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后...
关键词：光学技术 微光刻技术 微纳米加工技术 下一代光刻技术 分辨率增强技术 
微光刻与微/纳米加工技术(续)被引量：6
《微纳电子技术》2011年第2期69-73,共5页陈宝钦 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604);国家自然科学基金项目(61078060);基础科研项目(B1020090022)
2下一代光刻技术 虽然光学光刻技术为微电子技术突飞猛进的发展立下了汗马功劳,创造了一次又一次的人间奇迹,然而目前集成电路特征尺寸也越来越接近物理极限。为开发研究新一代的光刻技术,近年来世界各大国和各国著名的大公司联合开展...
关键词：纳米加工技术 下一代光刻技术 微光刻 研究与开发 光学光刻技术 微电子技术 物理极限 特征尺寸 
SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位
《半导体技术》2011年第1期95-95,共1页
2010年11月30日，SUSSMicroTecAG的全资子公司HamaTechAPE GmbH＆Co．KG宣布，已接到几十份MaskTrackPro设备订单。MaskTrackPro于2009年投产，是用于下一代光刻领域的完整掩膜流程平台。对于亚22nm 193nm浸没式光刻、EUVL深紫外光刻、...
关键词：纳米压印技术 光刻设备 市场 下一代光刻 深紫外光刻 EUVL 光刻工艺 掩膜版 
微光刻与微/纳米加工技术被引量：14
《微纳电子技术》2011年第1期1-5,共5页陈宝钦 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604);国家自然科学基金项目(61078060);基础科研项目(B1020090022)
介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻...
关键词：微光刻技术 微纳米加工技术 分辨率增强技术 下一代光刻技术 可制造性设计 
SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位
《电子工业专用设备》2010年第12期57-57,共1页
SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH ＆ Co．KG宣布，已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产，是用于下一代光刻领域的完整掩模流程平台。
关键词：光刻设备 市场 技术 下一代光刻 GmbH APE 掩模 
下一代光刻技术的EUV光源收集系统的发展被引量：1
《激光与红外》2010年第11期1163-1167,共5页左保军 祝东远 张树青 李润顺 
当前半导体器件加工水平正在向22 nm方向发展,而最有希望实现这一尺寸的光刻技术即为EUV光刻技术。EUV光源所发出的13.5 nm辐射因为波长极短,物质对其吸收十分强烈,所以使采用透射式光学系统对辐射进行收集的可能几乎为零。如何高效地收...
关键词：光刻 EUV 垂直入射式 掠入射式 收集效率 内嵌式 WolterⅠ型 
六维微位移、力全反馈纳米压印装备的关键技术与应用研究
《中国科技成果》2010年第5期12-13,共2页
国家863计划课题（2006AA04Z334）.
纳米压印光刻（Nano Imprint Lithography，NIL）是面向45nm以下半导体制造工艺下一代光刻技术的主流之一。基于紫外纳米压印光刻是一种在常温和常压下使用的光刻技术，是非常有希望成为未来光刻技术的主流工业技术。多层纳米压印套印...
关键词：下一代光刻技术 纳米压印光刻 应用 装备 半导体制造工艺 微位移 全反馈 六维 
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