SUSS MicroTec公司进一步巩固其光刻设备在技术和市场上的领先地位  

出　　处：《半导体技术》2011年第1期95-95,共1页Semiconductor Technology

摘　　要：2010年11月30日，SUSSMicroTecAG的全资子公司HamaTechAPE GmbH＆Co．KG宣布，已接到几十份MaskTrackPro设备订单。MaskTrackPro于2009年投产，是用于下一代光刻领域的完整掩膜流程平台。对于亚22nm 193nm浸没式光刻、EUVL深紫外光刻、NIL接触式纳米压印技术等先进光刻工艺的掩膜版，MaskTrack Pro是目前已知唯一可以实现清洗、

关 键 词：纳米压印技术 光刻设备 市场 下一代光刻 深紫外光刻 EUVL 光刻工艺 掩膜版 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]