掩膜版

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【行业动态】清溢光电佛山生产基地高精度掩膜版生产基地封顶
《印制电路信息》2025年第1期67-67,共1页无 
日前,清溢光电佛山生产基地“高精度掩膜版生产基地建设项目”封顶。清溢光电指出,该项目圆满封顶,不仅是对公司研发和生产实力的有力证明,也为公司在平板显示领域的发展注入了新的活力。据深圳清溢光电股份有限公司介绍,该项目从桩基...
关键词：基地建设项目 平板显示 掩膜版 封顶 桩基施工 行业动态 新的活力 光电 
基于不完全匹配的掩膜版进行芯片套刻的校准方案
《光电子技术》2024年第2期116-120,共5页张文靖 张恺馨 杨天溪 孙捷 严群 林畅 蒋冰鑫 李洋 兰金华 陈辉 
国家重点研发计划(2021YFB3600104);福建省科技厅项目(2021HZ0114,2021J01583);中国福建光电信息科学与技术创新实验室项目(2021ZZ122)。
提出一种校准方案,在套刻曝光一般步骤的基础上进行适当调整,用不完全匹配的掩膜版同样能够实现准确的套刻曝光。研究为提高芯片制备效率、保证对准精度提供了新思路。
关键词：光刻工艺 套刻曝光 校准 集成电路 
基于V90伺服的机器人夹具在掩膜版行业的应用
《电子工业专用设备》2024年第2期12-19,共8页许鹏亮 熊启龙 
设计并实现了一种新型掩膜版机器人夹具,并将其成功应用于光刻掩膜版(Photomask)制造车间自动化产线中。该新型夹具采用了以Simens V90伺服作为夹具执行机构的解决方案,同时为了满足对无尘车间高洁净度的要求和对产品安全性保护,夹具采...
关键词：掩膜版 V90伺服 西门子1500PLC 机器人夹具 
数据
《产城》2024年第1期43-43,共1页
60%随着全球显示产业进一步向中国转移,以及在高世代、高精度市场需求的带动下,2025年中国平板显示掩膜版市场规模全球占比有望超过60%。不过业内人士强调,尽管我国掩模版行业发展速度很快,但还是存在产业链断层的情况,关键原材料和设...
关键词：行业发展速度 平板显示 显示产业 产业链 市场需求 掩膜版 原材料 
浙江首个IC光掩膜版项目,睿晶半导体完成首期交付
《中国集成电路》2023年第7期28-28,共1页
近日,落户浙江镇海集成电路产业园的首个项目---睿晶半导体项目首期完成交付,预计今年底前投产,镇海集成电路产业园也正式开园。按照计划,睿晶半导体项目一期将月产掩模版2000片,实现年产值12亿元;二期将在一期的基础上,新增月产能2000...
关键词：集成电路 产业园 半导体 浙江镇海 掩膜版 交付 项目 
TFT-LCD阵列基板栅极半透掩膜版设计研究
《电子技术与软件工程》2023年第7期126-129,共4页乔亚峥 沈鹭 江鹏 刘信 丁俊 
本文采用40%和45%透光率的栅极半透掩膜版,详细分析了各透光率下的曝光特性、工艺波动性、生产节拍、量产可行性等。研究表明:栅极半透掩膜版透光率设计可结合产品性能要求和生产节拍进行选择。高端产品,工艺稳定性要求高,需求品质优,...
关键词：超维场转换技术 栅极半透掩膜版 透光率 
掩膜版线状mura的控制方法
《电子质量》2022年第9期139-142,共4页司继伟 刘玉闯 林伟 
在分析掩膜版出现线状mura主要是由于图形关键尺寸(critical dimension,CD)精度周期性波动的基础上,深入分析了光刻设备的曝光原理以及掩膜版光刻过程,得出导致掩膜版图形CD精度周期波动的因素,主要是扫描带(scanstrip)与扫描带之间重...
关键词：掩膜版 线状mura mura控制 关键尺寸均匀性 
掩膜版行业进入高速增长通道
《股市动态分析》2022年第18期54-55,共2页李兴然 
渗透率提升+国产芯片崛起双重驱动,掩膜版行业进入高速增长通道。行业进入高速增长通道掩膜版是光刻工艺的“底片”,市场规模稳步提升:掩膜版是微电子制造过程中的图形转移工具或者母版,承载着图形设计和工艺技术信息,被应用于半导体芯...
关键词：半导体芯片 微电子制造 掩膜版 光刻工艺 图形转移 国产芯片 双重驱动 电路板 
大尺寸掩膜版显影工艺研究被引量：2
《光电子技术》2022年第2期129-132,共4页张华超 葛翔 熊启龙 
对大尺寸(520 mm×800 mm及以上)掩膜版生产过程中的连续喷雾影喷液方式和狭缝液帘影喷液方式进行对比分析,通过实验及生产过程的监控,得出了两种显影喷液方式的优缺点。综合对比得出,在掩膜版的生产过程中,选择狭缝液帘显影喷液方式最佳。
关键词：大尺寸掩膜版 显影工艺 显影喷嘴 狭缝液帘 均匀性 
光掩膜版衍射条纹不良研究及改善分析
《光电子技术》2022年第1期22-27,共6页李文 徐兵 熊启龙 徐智俊 
基于衍射条纹的产生机理,从图形设计和腔室环境方面提出改善措施,设置不同的重叠区与图形重叠占比、不同的重叠区位置类型以及不同腔室温度和相对湿度波动,观察版材的衍射条纹变化。试验表明,随着重叠区与图形重叠比例的增加,其衍射条...
关键词：光掩膜版 衍射条纹 不良重叠区 位置类型 温湿度 
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