微光刻技术

作品数：15被引量：47H指数：3
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相关作者：陈宝钦侯德胜冯伯儒张锦汤跃科更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院微电子研究所四川师范学院ASML控股股份有限公司更多>>
相关期刊：《微电子技术》《微细加工技术》《光电技术》《集成电路应用》更多>>
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全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会2019年会在长春召开
《微纳电子技术》2019年第11期939-939,共1页
全国半导体设备和材料标准化技术委员会第九届微光刻技术交流会暨微光刻分技术委员会年会于2019年9月8-12日在长春市召开,来自全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会的委员和国内外86家单位微光刻领域的专家及技术人...
关键词：微光刻技术 最新研究成果 标准化技术委员会 半导体 技术人员 
光刻与微纳制造技术的研究现状及展望被引量：12
《微纳电子技术》2012年第9期613-618,636,共7页周辉 杨海峰 
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(JX111742);国家自然科学基金资助项目(51105360);江苏省自然科学基金资助项目(BK2011218);江苏省光子制造科学与技术重点实验室开放基金资助项目(GZ200905)
首先介绍了微纳制造的关键工艺技术——光刻技术。回顾了光刻技术的发展历程,介绍了各阶段主流光刻技术的基本原理和特点。阐述了国内外对光刻技术的研究现状,并讨论了光刻与微纳制造技术面临的挑战及其需要解决的关键性技术问题。然后...
关键词：光学技术 微光刻技术 微纳米加工技术 下一代光刻技术 分辨率增强技术 
全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会(筹)全体大会暨国家标准审定会圆满闭幕
《微纳电子技术》2012年第1期68-68,共1页
全国半导体设备与材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会（筹）全体大会暨国家标准审定会于2011年11月24—25日在深圳市顺利召开，来自全国各地37个单位的55名代表参加了本次会议，参加会议的还有北京电子学会半导体委员会委员与《微...
关键词：标准化技术委员会 半导体设备 微光刻技术 国家标准 审定 材料 纳米制造技术 用户单位 
我国纳米光刻技术研究取得突破
《光学仪器》2011年第3期41-41,共1页
不久前，中科院光电技术研究所微光刻技术与微光学实验室首次提出了基于微结构边际的LSP超分辨光刻技术。该技术利用微纳结构边际作为掩模图形，对表面等离子体进行有效激发，其采用普通I—line、G-line光源获得了特征尺寸小于30nm的超...
关键词：纳米光刻技术 表面等离子体 光刻图形 光学实验室 微光刻技术 光电技术 line 特征尺寸 
微光刻与微/纳米加工技术被引量：14
《微纳电子技术》2011年第1期1-5,共5页陈宝钦 
国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2006CB0N0604);国家自然科学基金项目(61078060);基础科研项目(B1020090022)
介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻...
关键词：微光刻技术 微纳米加工技术 分辨率增强技术 下一代光刻技术 可制造性设计 
薄型CRT平板显示器的结构与工作特性
《光电技术》2009年第2期24-26,共3页
新一代平板显示（CRT）器件——薄型CRT已被研制出来，这种新技术显示了用于从更高效笔记本电脑与便携式显示器到台式监示器及电视的潜力。薄型机（〈8毫米）结合了低价可视性能与可批量生产的优点。利用相对高的阳极电压（6千）低行驱...
关键词：平板显示器 薄型CRT 结构 微光刻技术 特性 阳极电压 显示器件 笔记本电脑 
光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道
《集成电路应用》2006年第7期28-28,共1页Aaron Hand 
在不久前召开的SPIE Microlithography（国际光学工程学会微光刻技术年度会议）上，BACUS（国际光掩膜技术学会）组织了一次圆桌会议，来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议...
关键词：微光刻技术 掩膜技术 浸没式 国际光学工程学会 厂商 圆桌会议 SPIE 发展趋势 膜工艺 制造商 
图像传感器面临的市场竞争被引量：2
《光机电信息》2006年第4期50-51,共2页庞骐 
图像传感器在消费品市场和专用品市场均迎来了属于自己的销售旺期,在已经建立的相当大的市场基础上,销售额将不断攀升。
关键词：图像传感器 市场竞争 互补型金属氧化物半导体 超大规模集成电路 0.18μm 微细加工技术 制造技术 电子线路 微光刻技术 市场发展 
CIF数据格式转换成PG3600数据格式的新切割算法
《微细加工技术》2006年第1期7-12,共6页李金儒 汤跃科 陈宝钦 
国家重点基础研究资助项目(G20000365042002CB3119072002AA325040);国家自然科学基金资助项目(6029008160276019902070046037602060236010)
为了编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT数据格式上的转换软件,提出了一种新的将微光刻图形CIF数据格式转换为PG3600数据格式的图形切割算法———沿边切割法,重点讨论了圆形和多边形切割成矩形的具体算法,并与其它几...
关键词：微光刻技术 数据格式转换 图形切割 沿边切割算法 
光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术被引量：4
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期1-6,共6页陈宝钦 刘明 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵珉 刘珠明 王德强 任黎明 胡勇 龙世兵 陆晶 杨清华 张立辉 牛洁斌 
国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000036504)和国家自然科学基金(批准号:90207004,60376020,60390071,60236010,60276019,60576032)资助项目
介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑...
关键词：微光刻技术 微纳米加工技术 电子束直写 匹配与混合光刻技术 
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