分辨率增强技术

作品数：68被引量：94H指数：6
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相关机构：浙江大学中国科学院大学中国科学院上海光学精密机械研究所中国科学院微电子研究所更多>>
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全息光刻技术(特邀)
《中国激光》2024年第12期227-253,共27页刘宇洋 潘东超 付迪宇 李思坤 
国家自然科学基金(62374167,U22A2070)。
全息光刻是一种先进的掩模对准光刻,是接近式光刻的拓展,为大面积图形制造、集成电路互连封装以及微纳结构制造提供了一种方法。用全息掩模代替接近式光刻中的二值掩模,可以提高分辨率和成像对比度。与主流的投影式光刻相比,全息光刻无...
关键词：全息光刻 接近式光刻 全息掩模 分辨率增强技术 
计算光刻研究及进展被引量：9
《激光与光电子学进展》2022年第9期112-160,共49页马旭 张胜恩 潘毅华 张钧碧 余成臻 董立松 韦亚一 
国家科技重大专项(2017ZX02315001-003);国家自然科学基金(61675021)。
光刻是将集成电路器件的结构图形从掩模转移到硅片或其他半导体基片表面上的工艺过程,是实现高端芯片量产的关键技术。在摩尔定律的推动下,光刻技术跨越了90~7 nm及以下的多个工艺节点,逐步逼近其分辨率的物理极限。同时,光刻系统的衍...
关键词：计算光刻 分辨率增强技术 先进半导体制造工艺 光学光刻 计算光学 光电图像处理 
先进计算光刻被引量：1
《激光与光电子学进展》2022年第9期161-176,共16页袁淼 孙义钰 李艳秋 
国家自然科学基金(62175014);国家科技重大专项(2017ZX02101006)。
计算光刻是极大规模集成电路(IC)制造的核心技术之一。随着IC节点的不断下移,对于工艺的要求越来越严苛。计算光刻技术对推进光刻工艺进步做出了巨大贡献。然而,尽管计算机技术的发展为计算光刻技术的进步提供了有力的支持,但是计算光...
关键词：光刻 计算成像 逆向光刻 计算光刻 分辨率增强技术 
光源掩模联合优化技术研究被引量：3
《激光与光电子学进展》2022年第9期177-196,共20页廖陆峰 李思坤 张子南 王向朝 
光刻机是集成电路制造的核心装备,光刻分辨率是光刻机的重要性能指标。作为提高光刻机分辨率的重要手段,分辨率增强技术可以推动芯片向更高集成度发展。光源掩模联合优化(SMO)通过同时优化光源和掩模图形提高光刻分辨率,是28 nm及以下...
关键词：光刻 分辨率增强技术 光源掩模联合优化 
基于深度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法被引量：3
《光学学报》2022年第10期202-211,共10页杨欣华 李思坤 廖陆峰 张利斌 张双 张生睿 施伟杰 韦亚一 王向朝 
国家科技重大专项(02专项)(2017ZX02101004-002,2017ZX02101004-003,2017ZX02101004);上海市自然科学基金(17ZR1434100)。
提出一种基于深度优先搜索的全芯片光源掩模优化关键图形筛选方法。所提方法采用掩模频谱的投影边界以及增长因子表征掩模的衍射频谱特征。设计了基于深度优先搜索的关键图形筛选算法,实现了全芯片光源掩模优化关键图形筛选,获得了所有...
关键词：光学设计 图形筛选 分辨率增强技术 光源掩模联合优化 深度优先搜索 
基于自适应非线性粒子群算法的光刻光源优化方法被引量：1
《光电工程》2021年第9期49-56,共8页王建 刘俊伯 胡松 
国家自然科学基金资助项目(61604154,61875201,61975211,62005287)。
光刻光源优化作为必不可少的分辨率增强技术之一,能够提高先进光刻成像质量。在先进光刻领域,光源优化的收敛效率和优化能力是至关重要的。粒子群优化算法作为一种全局优化算法,自适应控制策略可以提高粒子的全局搜索能力,非线性控制策...
关键词：光源优化 光刻 分辨率增强技术 粒子群优化算法 
基于衍射谱分析的全芯片光源掩模联合优化关键图形筛选被引量：4
《光学学报》2020年第21期126-136,共11页廖陆峰 李思坤 王向朝 张利斌 张双 高澎铮 韦亚一 施伟杰 
国家02科技重大专项(2017ZX02101004-002,2017ZX02101004);上海市自然科学基金(17ZR1434100)。
提出了一种全芯片光源掩模联合优化的关键图形筛选方法,用图形的主要频率表征图形的特征,用主要频率的位置和轮廓信息描述主要频率在频域上的分布特征。设计了相应的主要频率提取方法、覆盖规则、聚类方法以及关键图形筛选方法,实现了...
关键词：光学设计 光刻 分辨率增强技术 光源掩模联合优化 图形筛选 
集成电路掩模分辨率增强技术被引量：1
《电子与封装》2020年第11期64-67,共4页华卫群 周家万 尤春 
随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法。
关键词：掩模 分辨率增强技术 相移掩模 光学邻近效应修正 光源掩模协同优化 
基于光刻胶三维形貌的光刻多参数联合优化方法被引量：3
《光学学报》2020年第4期144-156,共13页茅言杰 李思坤 王向朝 韦亚一 陈国栋 
上海市自然科学基金(17ZR1434100);国家科技重大专项(2017ZX02101004-002)。
多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的发展方向。提出了一种以光刻胶三维形貌差异为评价目标的光刻多参数联合优化方法。以多个深度位置的光刻胶图形误差为目标函数,对光源、掩模、投影物镜波前、离焦量和曝光剂量进行联合优化,提高了...
关键词：光学制造 光刻 分辨率增强技术 光源掩模优化 光刻胶 
工件台振动低敏感光刻系统协同优化方法被引量：1
《红外与激光工程》2019年第12期178-184,共7页盛乃援 李艳秋 韦鹏志 刘丽辉 
国家自然科学基金面上项目(61675026);国家科技重大专项(2017ZX02101006-001)
计算光刻是提高光刻成像性能的有效方法。但是,大多数计算光刻技术建立在理想光刻系统下而忽略了系统误差的影响。系统误差中的工件台振动会导致光刻图形误差增大和工艺窗口下降。因此,必须要降低工件台振动对光刻性能的影响。建立了一...
关键词：深紫外光刻 分辨率增强技术 协同优化 计算光刻 
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