集成电路掩模分辨率增强技术  

Mask Resolution Enhancement Technology for IC

作　　者：华卫群 周家万 尤春 HUA Weiqun;ZHOU Jiawan;YOU Chun(Wuxi Zhongwei Mask Electronic Co.,Ltd.,Wuxi 214001,China)

机构地区：[1]无锡中微掩模电子有限公司,江苏无锡214001

出　　处：《电子与封装》2020年第11期64-67,共4页Electronics & Packaging

摘　　要：随着大规模集成电路技术的飞速发展,掩模分辨率增强技术变得越来越重要。介绍了掩模分辨率增强技术中的相移掩模技术、光学邻近效应修正技术和光源掩模协同优化技术,重点介绍了3种技术的作用和具体做法。With the rapid development of LSI technology,resolution enhancement technology becomes more and more important.In this paper,the phase-shifting mask technology,optical proximity correction technology and source mask optimization technology in mask resolution enhancement technology are introduced.

关 键 词：掩模 分辨率增强技术 相移掩模 光学邻近效应修正 光源掩模协同优化 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]