全息光刻

作品数：51被引量：138H指数：7
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相关期刊：《微细加工技术》《湖南科技学院学报》《红外与毫米波学报》《新技术新工艺》更多>>
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包装用镭射全息光刻材料的制备研究
《广东印刷》2025年第1期34-36,共3页傅玉章 宋玉 韩国程 
一、背景。目前,假冒伪劣产品的问题一直没有得到有效解决,这不只是打乱了经济的正常运行,同时也侵害了商家和消费者的合法权益。防伪科技目前正在面临持续的考验,图像编码、射频、激光全息、生物信息等新科技的产生和应用则为我们带来...
关键词：假冒伪劣产品 全息光刻 激光全息 图像编码 消费者的合法权益 制备研究 科技 
一维亚波长红外偏振光栅全息光刻加工
《光学精密工程》2024年第21期3147-3156,共10页陆天石 邓富元 李星辉 
广东省基础与应用基础研究基金资助项目(No.2021B1515120007)。
亚波长光栅作为一种体积小,易于集成,消光比高的偏振选择器件,在遥感探测、材料应力探测和抗散射成像等领域有着丰富的应用前景。本文设计了高消光比,高透过率的一维亚波长光栅偏振选择器件,并实现其高效的加工方式。首先,基于等效介质...
关键词：全息光刻 双层金属光栅 亚波长光栅 偏振选择 
基于二次全息光刻生成莫尔条纹的全息光刻系统检测方法
《微纳电子技术》2024年第6期165-172,共8页郝腾 姚文港 张奇 
为对大尺寸、高精度、紫外全息光刻系统光束质量进行监控,提出了一种基于二次全息光刻生成莫尔条纹的检测方法。阐述了莫尔条纹形状与全息光刻光束质量的关系,建立了二次曝光微调角度与莫尔条纹周期关系的模型,给出了实际工作中的微调...
关键词：全息光刻 莫尔条纹 光路 检测 周期 
全息光刻技术(特邀)
《中国激光》2024年第12期227-253,共27页刘宇洋 潘东超 付迪宇 李思坤 
国家自然科学基金(62374167,U22A2070)。
全息光刻是一种先进的掩模对准光刻,是接近式光刻的拓展,为大面积图形制造、集成电路互连封装以及微纳结构制造提供了一种方法。用全息掩模代替接近式光刻中的二值掩模,可以提高分辨率和成像对比度。与主流的投影式光刻相比,全息光刻无...
关键词：全息光刻 接近式光刻 全息掩模 分辨率增强技术 
大功率808 nm分布反馈激光器阵列研制
《固体电子学研究与进展》2024年第1期72-76,共5页孙春明 朱振 任夫洋 陈康 苏建 夏伟 徐现刚 
为了提高808 nm大功率半导体激光器阵列的波长稳定性,提出了带有二阶布拉格光栅的大功率宽条型808 nm分布反馈激光器阵列。相比于传统的一阶布拉格光栅,其可以显著抑制简并纵模的产生,提高器件的波长锁定范围。借助于金属有机化学气相...
关键词：温漂系数 二次外延 全息光刻 二阶光栅 激光器阵列 
基于激光微雕的亚纳米精细烫印技术
《印刷工业》2023年第3期38-40,共3页廖立瑜 
本研究采用激光微雕制版取代光刻机光刻制版,并借助于相机视觉的定位校正技术,实现了打标过程中工件的自动定位,降低了激光制版过程中工件定位的繁琐程度。该工艺为烟包、酒包等对工艺要求较高的产品提供了新的应用解决方案。镭射全息...
关键词：激光制版 烟包 印刷包装 工件定位 全息光刻 亚纳米 自动定位 微雕 
光栅制备工艺探究
《中文科技期刊数据库（引文版）工程技术》2023年第6期1-5,共5页刘婷婷 张奇 郝腾 
通过理论推导得到了不同形貌光栅的耦合系数公式,得出光栅不同物理参数对激光器耦合系数的影响,为器件的优化提供了理论支撑。采用全息光刻方法和干法刻蚀工艺在GaInP/InGaAsP体系中制备出了刻蚀倾角陡直、表面粗糙度低的光栅图形。全...
关键词：光栅 全息光刻 干法刻蚀 占空比 
DFB激光二极管光栅层的研究与制备
《中国标准化》2020年第S01期349-353,共5页刘浩 姚文港 赵润 郝腾 高鹏飞 
分布反馈(DFB)半导体激光器是现代光通信系统及红外探测中核心光源器件,外延结构一般由光栅材料层和量子阱材料层两大部分组成,其中光栅材料层中Bragg光栅制作质量的好坏对器件阈值和单模特性有直接影响。本文通过使用电子束光刻技术制...
关键词：BRAGG光栅 电子束光刻 全息光刻 分布反馈激光器 
用于飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模研制被引量：6
《光学精密工程》2020年第4期844-850,共7页刘全 黄爽爽 鲁金超 陈新华 吴建宏 
装备预研项目(No.41423030101);国家自然科学基金资助项目(No.60907017);上海市全固态激光器与应用技术重点实验室开放课题(No.2014ADL02);江苏高校优势学科建设工程(PAPD)资助项目。
利用严格耦合波理论分析了用于520 nm波长飞秒激光制备光纤光栅的相位掩模的衍射特性,当相位掩模是矩形槽形时,占宽比在0.32~0.43之间,槽形深度在0.57~0.67μm之间时,能够保证零级衍射效率抑制在2%以内,同时±1级的衍射效率大于35%。在...
关键词：全息光刻 相位掩模 严格耦合波理论 离子束刻蚀 衍射效率 
全息光栅金属掩模的制备与应用探究
《现代物理》2020年第1期1-6,共6页孙德昌 宋贵才 黄羽茜 
全息光栅是一种广泛应用于光谱仪器的分光器件,也是光谱仪器的核心器件,光栅的种类很多,本文优化了基于金属掩模的全息微型纳米光栅的制作方案。基于GaAs衬底,用全息光刻和电感耦合等离子体(ICP)干燥蚀刻的方法制备了300 nm周期光栅。...
关键词：光栅 全息光刻 干法刻蚀 芯片 
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