张立辉

作品数：4被引量：8H指数：2
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：电子束直写单电子晶体管光学微光刻技术电子束曝光系统更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微电子学》《固体电子学研究与进展》《Journal of Semiconductors》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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单电子晶体管的数值模拟及特性分析被引量：1
《固体电子学研究与进展》2006年第3期300-303,363,共5页张立辉 李志刚 刘明 谢常青 叶甜春 
国家自然科学基金项目(60290081;60276019;90207004;60236010;60376020)
在正统单电子理论的基础上,使用主方程方法,对金属隧道结组成的单电子晶体管进行了I-Vg和I-Va特性曲线的数值模拟。在单电子晶体管中,电子能否隧穿通过势垒,主要是由电子隧穿引起的系统自由能的变化而决定的。文中从自由能量出发对器件...
关键词：单电子晶体管 正统理论 主方程方法 
光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术被引量：4
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期1-6,共6页陈宝钦 刘明 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵珉 刘珠明 王德强 任黎明 胡勇 龙世兵 陆晶 杨清华 张立辉 牛洁斌 
国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000036504)和国家自然科学基金(批准号:90207004,60376020,60390071,60236010,60276019,60576032)资助项目
介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑...
关键词：微光刻技术 微纳米加工技术 电子束直写 匹配与混合光刻技术 
193 nm光刻散射条技术研究被引量：3
《微电子学》2005年第4期360-363,共4页康晓辉 张立辉 范东升 王德强 谢常青 刘明 
国家自然科学基金资助项目(60376020)
介绍了193nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193nm光刻...
关键词：光刻 亚分辨率辅助图形 散射条 离轴照明 分辨率增强 光学临近效应校正 
A Model of a Single Electron Transistor of Metallic Tunneling Junctions and Its Validation
《Journal of Semiconductors》2005年第7期1323-1327,共5页张立辉 李志刚 康晓辉 谢常青 刘明 
国家自然科学基金资助项目(批准号:60290081,60276019,90207004)~~
Based on the orthodox theory,a model of a single electron transistor （SET） of metallic tunneling junctions is built using the master equation method. Several parameters of the device, such as capacitance, resistance...
关键词：single electron transistor orthodox theory coulomb blockade quantum tunnelling 
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