离轴照明

作品数：34被引量：113H指数：7
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相关领域：电子电信机械工程理学更多>>
相关作者：罗先刚黄惠杰杨宝喜朱菁胡中华更多>>
相关机构：中国科学院中国科学院上海光学精密机械研究所上海微电子装备(集团)股份有限公司中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
相关期刊：《光学精密工程》《微电子学》《光学学报》《微细加工技术》更多>>
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基于傅里叶合成技术的光刻照明系统研究被引量：3
《中国激光》2023年第6期105-112,共8页李慧 吴晓斌 韩晓泉 马赫 沙鹏飞 
国家自然科学基金面上项目(6207012724)。
离轴照明技术是光刻工艺中提高成像分辨率的关键技术之一。本文提出了一种基于傅里叶合成技术的照明系统,该系统能够实现任意照明模式,并可以提高成像数值孔径,同时具有灵活高效、能量利用率高、易于实现等优点。本课题组通过计算仿真...
关键词：傅里叶光学 傅里叶合成 光刻工艺 离轴照明 椭球收集镜 角度扫描 
离轴照明强度不对称性对投影曝光光刻系统成像影响分析
《电子技术与软件工程》2023年第6期147-150,共4页陈德良 王玉清 李世雄 余宏 
贵州省科技支撑计划项目(黔科合SY字[2014]3084);贵州省教育厅青年科技人才成长基金(批准号:黔教合KY字[2016]217);中央引导地方科技发展专项资金项目(黔科中引地【2019】4012)资助。
本文对离轴照明强度不对称性对投影曝光光刻系统成像影响进行了分析。离轴照明相对传统照明来讲可以提高光刻系统成像的分辨率,是光刻系统常用的照明模式。但是离轴照明光源相对光轴的强度和位置不对称性,会对光刻成像产生较大影响。因...
关键词：光刻系统 离轴照明 离焦 部分相干成像 
光刻照明系统中新型均匀性补偿器的设计被引量：3
《激光与红外》2019年第1期105-109,共5页李美萱 阚晓婷 王美娇 
国家自然科学基金项目(No.91338116);吉林省教育厅科学研究项目(No.JJKH20181363KJ)资助
在超大规模集成电路中,为了满足波长193 nm数值孔径为1. 35的45 nm节点紫外光刻曝光光学系统对高分辨率的要求,设计了一种新型的均匀性补偿器件,用于提高照明系统的出射光均匀性从而实现光刻线条的高度均一性。该照明均匀性补偿器的主...
关键词：均匀性补偿器 浸没式光刻 高分辨率 传统照明 离轴照明 
先进节点接触层照明类型优化解决光刻制造要求
《电子与封装》2016年第10期36-38,47,共4页刘娟 
先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触(Contact)层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理:解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明+相移掩模+亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的...
关键词：离轴照明 照明类型 工艺窗口 掩模误差增强因子 
一种增大工艺窗口的光源优化方法被引量：2
《激光与光电子学进展》2015年第10期151-157,共7页江海波 邢廷文 
离轴照明(OAI)作为一种重要的分辨力增强技术(RET),不仅可以提高光刻分辨力,而且对焦深(DOF)也有一定程度的改善。针对特定的掩模图形,采用何种离轴照明模式能最大程度地改善光刻成像性能是主要研究的内容。通过优化设计的方法来获得最...
关键词：成像系统 光学光刻 离轴照明 光源优化 
基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计被引量：17
《光学学报》2015年第1期354-362,共9页宋强 朱菁 王健 张方 吕向博 杨宝喜 黄惠杰 
国家科技重大专项(2011ZX020402);国家国际科技合作专项(2011DFR10010);上海市青年科技英才扬帆计划(14YF1406300)
深紫外(DUV)光刻机照明系统普遍采用衍射光学元件(DOE)实现光瞳整形。根据光刻机的指标要求,衍射光学元件应具有高衍射效率和高均匀性的特点。传统的相位恢复算法如Gerchberg-Saxton(GS)及其改进算法,一般只能通过降低均匀性来提高衍射...
关键词：光学设计 光学光刻 光瞳整形 衍射光学元件设计 部分相干光 
非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响被引量：4
《光电工程》2013年第2期87-92,共6页陈安 林妩媚 江海波 
通过PROLITH光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径NA和相干因子σ的变化规律。仿真结果表明:在无像差的理想光学系统中,光瞳偏心主要影响图形的位置偏移量,图形的位置...
关键词：光刻仿真 非理想照明 光瞳偏心 离轴照明 
极紫外光刻离轴照明技术研究被引量：9
《光学学报》2012年第12期140-145,共6页王君 金春水 王丽萍 卢增雄 
国家科技重大专项资助课题
离轴照明技术(OAI)是极紫外光刻技术中提高光刻分辨率的关键技术之一。为了实现考虑掩模阴影效应情况下离轴照明的优化选择,构造了一种新型实现OAI曝光的成像模型。将照射到掩模上的非相干光等效为一系列具有连续入射方向的等强度平行光...
关键词：X射线光学 极紫外光刻 分辨率增强 离轴照明阴影效应 光刻胶 
高分辨率投影光刻机光瞳整形技术被引量：12
《激光与光电子学进展》2011年第11期38-45,共8页胡中华 杨宝喜 朱菁 肖艳芬 曾爱军 黄立华 赵永凯 黄惠杰 
国家科技重大专项项目(2009ZX02205-001)资助课题
在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反射镜阵列(MMA)的3种...
关键词：光学制造 光刻 离轴照明 光瞳整形 衍射光学元件 微透镜阵列 微反射镜阵列 
投影光刻离轴照明用衍射光学元件的矢量分析被引量：13
《光学学报》2011年第10期25-30,共6页张巍 巩岩 
国家自然科学基金(40974110)资助课题
使用衍射光学元件(DOE)作为投影光刻照明系统实现离轴照明(OAI)的光束整形匀光器件,能够在保持较高照明效率的基础上精确控制OAI光束的形状及光强分布。在矢量角谱传输方法的基础上,建立了投影光刻用DOE的矢量分析模型,并对标量方法设计...
关键词：衍射 衍射光学元件 光束整形 矢量角谱 偏振 
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