云南高校图书馆联盟文献共享服务平台- 光刻仿真

光刻仿真: 作品数：21被引量：24H指数：3; 导出分析报告; 相关领域：电子电信更多>>; 相关作者：史峥王国雄严晓浪吴玉平陈岚更多>>; 相关机构：浙江大学全芯智造技术有限公司中国科学院微电子研究所中国科学技术大学更多>>; 相关期刊：《系统仿真学报》《光学学报》《微电子学》《半导体技术》更多>>; 相关基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划中国博士后科学基金更多>>

纳米集成电路互连线建模和光刻仿真中的大规模并行计算方法被引量：5: 《中国科学：信息科学》2016年第10期1372-1391,共20页朱恒亮曾璇崔涛严昌浩张林波; 国家重点基础研究发展计划(973计划)(批准号:2011CB309701;2011CB309703);国家高技术研究发展计划(863计划)(批准号:2012AA01A30901);国家重点研发计划高性能计算重点专项项目(批准号:2016YFB0201304);国家自然科学基金(批准号:61376040;61574046;91330201;61274032;91430215;91530323;11321061);中国科学院国家数学与交叉科学研究中心(NC MIS)资助项目; 集成电路规模庞大、结构复杂,随着集成电路制造工艺进入纳米尺度,复杂制造工艺中的工艺波动严重影响电路性能,给集成电路设计带来了巨大的挑战.集成电路互连线建模与光刻仿真涉及大规模Maxwell方程的数值求解,计算复杂度高、规模庞大....; 关键词：大规模集成电路建模寄生参数提取光刻工艺有限元方法随机行走方法

严格电磁场波导方法的三维厚胶光刻工艺仿真（英文）: 《强激光与粒子束》2016年第6期8-12,共5页王禹欣周再发华杰王飞徐焕文黄庆安; supported by the Natural Science Foundation in Jiangsu Province(BK2012324); 无论是在微机电系统(MEMS)还是集成电路(IC)领域,SU-8厚胶光刻已经成为制造高深宽比结构的主流工艺。为了取代昂贵而耗时的光刻实验,一套能够良好预测显影形貌,从而为优化光刻制造提供有效帮助的光刻仿真软件就成为必要而有价值的工具...; 关键词：光刻仿真微机电系统波导光强分布

填充辅助多晶硅图形的参数成品率版图优化: 《浙江大学学报（工学版）》2015年第12期2333-2339,共7页韩晓霞韩雁; 国家青年自然科学基金资助项目(61106035);国家自然科学基金资助项目(61274035); 在纳米工艺下,为了更好地抵抗工艺波动的影响,减小位于标准单元边界处的MOS管沟道长度随聚焦误差引起的变化,提出在现有版图基础上在两相邻标准单元间填充最优辅助多晶硅图形的版图优化方式以提高芯片的参数成品率.通过修改所填充的辅...; 关键词：参数成品率聚焦误差光刻仿真版图优化工艺波动

基于严格电磁场模型的光学光刻仿真(英文)被引量：2: 《强激光与粒子束》2015年第2期36-39,共4页王飞周再发李伟华黄庆安; supported by Natural Science Foundation in Jiangsu Province(BK2012324); 光学光刻技术已广泛应用于微电子机械系统(MEMS)以及集成电路(IC)领域。由于光刻工艺设备的价格十分昂贵,因此利用光刻仿真这一技术来预期工艺结果并优化工艺中存在的问题就显得很有必要。研究了一种基于严格电磁场模型的求解方法——...; 关键词：光刻微电子机械系统波导光强分布光刻胶

用于光刻系统仿真的多边形处理算法: 《传感器与微系统》2014年第9期124-127,共4页吕楠史峥罗凯升耿臻; 国家自然科学基金资助项目(61204111); 为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,...; 关键词：传感器多边形切分光刻仿真光学邻近效应部分相干系数

一维版图的快速光刻仿真: 《光学学报》2013年第11期60-68,共9页谢春蕾史峥林斌; 充分利用光刻系统中光源的部分相干特性和一维图形的特性,提出了针对一维版图的快速平面光刻仿真算法。该方法由一维基元图形查表法、最小查找表及其边缘延伸和无切割的大面积版图仿真组成。仿真结果表明,在保证极高准确性的基础上,相...; 关键词：成像系统光刻光刻仿真一维版图

非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响被引量：4: 《光电工程》2013年第2期87-92,共6页陈安林妩媚江海波; 通过PROLITH光刻仿真软件研究了非理想照明光瞳对光刻成像质量的影响以及图形位置偏移量对光瞳偏心的敏感度随数值孔径NA和相干因子σ的变化规律。仿真结果表明:在无像差的理想光学系统中,光瞳偏心主要影响图形的位置偏移量,图形的位置...; 关键词：光刻仿真非理想照明光瞳偏心离轴照明

基于MC算法的光刻仿真微结构的三维重建: 《微计算机信息》2012年第2期181-183,共3页宫珊珊李木军; 在深度光刻中为了仿真微结构的形状,需要利用三维光场分布的数据对其进行三维重建。而MC(Marching Cubes)算法是三维重建中构造等值面的代表性的方法之一。以MC算法为基础,首先介绍了如何利用MC算法来绘制三维光场数据的等值面,然后分...; 关键词：光刻仿真三维重建移动立方体算法实体模型

大面积复杂掩模图形的快速光刻仿真研究被引量：1: 《仪器仪表学报》2010年第3期671-677,共7页李木军沈连婠赵玮郑津津周杰; 国家自然科学基金(10775128);中国博士后科学基金(20080430773)资助项目; 大面积复杂掩模图形的光刻仿真,要同时满足高精度和高效率两个要求。为克服现有方法积分区域大,计算效率低等问题,提出了一种基于最有效影响区域的简化计算方法。该方法首先利用波前分割的方法确定影响光刻胶目标场点光强的最有效影响区...; 关键词：光刻仿真复杂掩模图形波前分割计算效率

SOC光刻仿真3D实时显示方法研究: 《系统仿真学报》2008年第23期6383-6386,共4页崔滨万旺根唐经洲黄炳; 国家863高技术研究发展计划(2007AA01Z319);国家自然科学基金(60873130);上海市重点学科建设项目(J50104);上海大学研究生创新基金(06820113); 光刻仿真是SOC(System On Chip)光刻工艺的重要环节,为了实现仿真数据3D可视化,在光刻仿真程序SPLAT(Simulation of Projection Lens Aberrations via TCCs)基础上,提出了自动排序算法对SPLAT输出数据进行重新排列以便三维建模,建立了...; 关键词：光刻仿真 SOC SPLAT 三维可视化

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