光刻系统

作品数：82被引量：129H指数：6
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现代化产业体系中科技创新与产业创新的深度融合:全球新一代光刻系统的启示被引量：2
《中国科学院院刊》2024年第7期1141-1152,共12页余江 陈凤 郭玥 
国家自然科学基金(72334007、72204227、71834006);中国科学院战略性先导科技专项(XDA0380000);教育部哲学社会科学重大课题攻关项目(20JZD022)。
以科技创新引领现代化产业体系建设是把握新一轮科技革命和产业变革机遇的战略选择,也是面向高水平科技自立自强赢得战略主动的必然之举。科技创新是产业创新的内生动力,产业创新是科技创新的价值实现,构建和完善现代化产业体系关键在...
关键词：现代化产业体系 科技创新 产业创新 深度融合 极紫外光刻 
光纤多通道并行激光直写光刻系统(特邀)
《中国激光》2024年第12期382-388,共7页张娜 罗昊 邱毅伟 詹刚垚 温积森 吕碧沪 匡翠方 朱大钊 刘旭 
国家重点研发计划(2022YFC2403100,2021YFF0502700);浙江省“尖兵”“领雁”研发攻关计划(2023C01051);国家自然科学基金(62105298,12204434);浙江省自然科学基金(LQ22F050017)。
激光直写是一项应用广泛的微纳加工技术。但受限于通量,单通道激光直写技术无法实现大面积应用。为此,提出并验证一种多通道激光直写技术,以提升激光直写技术的通量。与传统的以空间光光路为基础的多通道系统不同,介绍的技术使用光纤器...
关键词：激光直写 多通道并行光刻 光纤系统 微纳加工 
ASML光刻机卖不动了?还可能丢掉中国市场?
《中国粉体工业》2024年第2期59-59,61,共2页
ASML光刻机卖不动了?刚刚全球光刻机龙头企业阿斯麦(ASML)发布了2024年第一季度财报。一季度售出的全新光刻系统和二手光刻系统分别为66台和4台,相比上一季度的113台和11台,分别环比下降41.59%和63.64%。2024年一季度,阿斯麦的销售额为5...
关键词：光刻机 光刻系统 环比 阿斯 净利润 欧元 龙头企业 
离轴照明强度不对称性对投影曝光光刻系统成像影响分析
《电子技术与软件工程》2023年第6期147-150,共4页陈德良 王玉清 李世雄 余宏 
贵州省科技支撑计划项目(黔科合SY字[2014]3084);贵州省教育厅青年科技人才成长基金(批准号:黔教合KY字[2016]217);中央引导地方科技发展专项资金项目(黔科中引地【2019】4012)资助。
本文对离轴照明强度不对称性对投影曝光光刻系统成像影响进行了分析。离轴照明相对传统照明来讲可以提高光刻系统成像的分辨率,是光刻系统常用的照明模式。但是离轴照明光源相对光轴的强度和位置不对称性,会对光刻成像产生较大影响。因...
关键词：光刻系统 离轴照明 离焦 部分相干成像 
数字微镜阵列微立体光刻系统光路仿真与应用被引量：1
《烟台大学学报（自然科学与工程版）》2022年第3期351-356,共6页武传祥 蔡树向 杨文广 
国家自然科学基金资助项目(61803323);山东省自然科学基金资助项目(ZR2019BF049)。
提出了一种基于数字微镜阵列的微立体光刻系统,并在COMSOL Multiphysics软件中进行了系统光路的建模与仿真。在分析微立体光刻系统的技术原理与组成元件基础上,建立了微立体光刻系统的完整光路仿真模型。最后,搭建了一套基于数字微镜阵...
关键词：数字光刻 微纳制造 光路设计 数字微镜阵列 
基于边缘光抑制技术的双光束激光直写纳米光刻系统被引量：13
《中国激光》2022年第2期1-11,共11页周国尊 何敏菲 杨臻垚 曹春 谢飞 曹耀宇 匡翠方 刘旭 
浙江省自然科学基金重大项目(LD21F050002);之江实验室重大科研项目(2020MC0AE01)。
利用边缘光抑制技术,设计并研制了一套双光束激光三维直写光刻系统。该系统含有高速扫描振镜和三维纳米压电平台两组扫描机构,可以根据不同加工需求完成多种扫描模式下的微纳结构制造。分析了光刻光束中激发光与抑制光的能量变化对加工...
关键词：激光技术 光学制造 受激发射损耗 激光直写 微纳光学器件 
手性液晶在DMD光刻系统下的衍射性能研究
《电脑知识与技术》2021年第25期24-27,共4页孙皖豫 
将光敏手性剂添加到向列型液晶中制成光学器件,把器件放在DMD光刻系统中,添加365nm的UV光诱导液晶手性发生变化,再用红光透过样品从而观察衍射效应。光刻系统分别投影纯白,黑白条纹两种不同的图片作为掩模版,观察出射偏振态的变化和衍...
关键词：DMD 手性剂 衍射 液晶光栅 光敏材料 
扫描干涉光刻系统光路结构误差分析与验证被引量：2
《仪器仪表学报》2020年第10期111-120,共10页张敏骏 张鸣 朱煜 
国家重大科技专项(2018ZX02101003);国家自然科学基金(51677104)项目资助
扫描干涉光刻(SBIL)是实现大面积高精度全息光栅制作的新技术,为实现纳米级干涉条纹精度,左右两侧曝光光路的对称性十分关键,为准确计算曝光光路空间对称性与光学元件结构及安装误差之间的关系,提出了一种基于三维空间向量映射法的SBIL...
关键词：扫描干涉光刻 光路结构误差 空间向量映射 紧凑型SBIL光路 干涉条纹误差 
工件台振动低敏感光刻系统协同优化方法被引量：1
《红外与激光工程》2019年第12期178-184,共7页盛乃援 李艳秋 韦鹏志 刘丽辉 
国家自然科学基金面上项目(61675026);国家科技重大专项(2017ZX02101006-001)
计算光刻是提高光刻成像性能的有效方法。但是,大多数计算光刻技术建立在理想光刻系统下而忽略了系统误差的影响。系统误差中的工件台振动会导致光刻图形误差增大和工艺窗口下降。因此,必须要降低工件台振动对光刻性能的影响。建立了一...
关键词：深紫外光刻 分辨率增强技术 协同优化 计算光刻 
一种基于泰伯子像的光刻系统并由期望图案设计掩膜板的方法
《集成电路应用》2019年第11期5-7,共3页荣南楠 张宝昊 何张登 刘帅 李凯强 吕俊君 
重庆市科技企业科技创新课题项目
提出一种基于泰伯效应利用泰伯子像实现光刻,并利用反演光刻技术由期望图案设计掩膜板的方 法。泰伯子像是在分数倍泰伯距离上出现的一种像元倍增且呈棋盘状分布的自成像。根据菲涅耳衍射理 论分析可知,泰伯子像是两种泰伯像在同一平面...
关键词：泰伯效应 泰伯子像 掩膜板 Talbot 光刻机 
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