王德强

作品数：10被引量：22H指数：3
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供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
发文主题：X射线光刻波带片X射线电子束电子束直写更多>>
发文领域：电子电信机械工程自动化与计算机技术理学更多>>
发文期刊：《光学精密工程》《微电子学》《微细加工技术》《电子工业专用设备》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
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光学波段量子点阵衍射光栅的衍射特性被引量：2
《强激光与粒子束》2008年第4期607-611,共5页王传珂 况龙钰 王哲斌 曹磊峰 刘慎业 丁永坤 王德强 朱效立 谢长青 
国家自然科学基金资助课题(10727504);国家高技术发展计划项目
概述了量子点阵衍射光栅的原理及制作方法,并设计标定实验,研究了不同角度及不同波长入射情况下量子点阵光栅的衍射特性。研究结果表明:量子点阵光栅不存在高级衍射,只保留了±1级和0级衍射,具有理想的单级衍射模式。光学波段量子点阵...
关键词：衍射光栅 量子点阵光栅 衍射特性 标定 
电子束和X射线光刻制作高分辨率微波带片被引量：6
《Journal of Semiconductors》2006年第6期1147-1150,共4页王德强 曹磊峰 谢常青 叶甜春 
国家自然科学基金(批准号:60276019);国家高技术研究发展计划(批准号:2004AA843082);教育部"同步辐射创新中心"研究生创新基金资助项目~~
在硅为衬底材料的自支撑氮化硅薄膜上,采用阴阳图形互换转移技术,先使用电子束直写方法制作成功了最外环为150nm的阳图形微波带片,然后用同步辐射X射线光刻技术复制成功了最外环为150nm的阴图形微波带片,得到可以应用于ICF诊断技术中的...
关键词：电子束 X射线光刻 微波带片 菲涅耳波带片 
光学和电子束曝光系统之间的匹配与混合光刻技术被引量：4
《Journal of Semiconductors》2006年第z1期1-6,共6页陈宝钦 刘明 徐秋霞 薛丽君 李金儒 汤跃科 赵珉 刘珠明 王德强 任黎明 胡勇 龙世兵 陆晶 杨清华 张立辉 牛洁斌 
国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000036504)和国家自然科学基金(批准号:90207004,60376020,60390071,60236010,60276019,60576032)资助项目
介绍如何实现光学和电子束曝光系统之间的匹配和混合光刻的技术,包括:(1)光学曝光系统与电子束曝光系统的匹配技术;(2)投影光刻和JBX-5000LS混合曝光技术;(3)接触式光刻机和JBX-5000LS混合曝光技术;(4)大小束流混合曝光技术或大小光阑...
关键词：微光刻技术 微纳米加工技术 电子束直写 匹配与混合光刻技术 
193 nm光刻散射条技术研究被引量：3
《微电子学》2005年第4期360-363,共4页康晓辉 张立辉 范东升 王德强 谢常青 刘明 
国家自然科学基金资助项目(60376020)
介绍了193nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193nm光刻...
关键词：光刻 亚分辨率辅助图形 散射条 离轴照明 分辨率增强 光学临近效应校正 
热压印光刻技术复制波带片图形研究被引量：2
《微细加工技术》2005年第3期27-30,共4页范东升 王德强 康晓辉 陈大鹏 谢常青 
国家自然科学基金资助项目(60236010);973资助项目(G200036504)
针对只需单次曝光的菲涅尔波带片器件,给出了结合电子束光刻和热压印光刻进行大规模复制的完整工艺路线,即首先采用电子束光刻制作热压印模版,之后用热压印光刻进行波带片的大规模复制,所制得的波带片图形的最外环宽度为250 nm,直径为19...
关键词：波带片 纳米压印 热压印 
X射线光刻对准系统图像增强技术和对准标记研究
《电子工业专用设备》2005年第2期22-25,32,共5页王德强 谢常青 陈大鹏 叶甜春 刘业异 胡松 
国家自然科学基金资助项目(60276019;60236010)
作为微细加工技术之一的高分辨率光刻技术--同步辐射X射线光刻(XRL)可应用于100nm及100nm节点以下分辨率光刻,高精度对准技术对XRL至关重要,直接影响到后续器件的生产质量。目前国内的XRL对准系统主要采用CCD相机和显微物镜采集图像,经...
关键词：X射线光刻 对准系统 拉普拉斯算子 对准标记 
电子束制作高分辨率波带片图形数据研究被引量：3
《微细加工技术》2005年第2期28-33,共6页王德强 康晓辉 谢常青 叶甜春 
国家自然科学基金资助项目(60236010;60290081;9027004)
根据圆环内部和相邻环分割单元之间的位置关系,设计了无间隙拼接处对齐和错开、有间隙拼接处对齐和错开四种结构模型。通过分析和比较这四种不同结构的高分辨率波带片图形数据,给出图形数据量和剖分单元数的变化关系曲线。根据扫描电子...
关键词：电子束 波带片 双曝光 临近效应 
深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0
《微细加工技术》2004年第4期27-30,35,共5页谢常青 王德强 陈大鹏 叶甜春 伊福廷 韩勇 张菊芳 
973资助项目(G200036504);北京同步辐射装置重点资助项目(BSRF2001-03)
介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件———XLSS1 0。该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模...
关键词：X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程 
X射线光刻对准边缘增强技术及性能研究
《微细加工技术》2004年第2期17-22,共6页王德强 谢常青 叶甜春 刘业异 胡松 
针对三种不同的图像边缘增强方法进行了掩模和硅片识别精度以及对准精度的实验验证。采用一种新的测试方法,即先通过软件得到大量的数据,然后再进行数据分析,得出LAPLAC算子在识别精度和对准精度两个方面比较好,而改进后的SOBELII算子...
关键词：X射线光刻 对准系统 拉普拉斯算子 识别精度 对准精度 
用于X射线光刻对准的图像边缘增强技术被引量：4
《光学精密工程》2004年第4期426-431,共6页王德强 谢常青 叶甜春 
提出了用于提高X射线光刻对准系统自动对准效率和对准精度的图像边缘增强技术,并进行了数值分析。采用先单个再整体的分析方法,通过三种不同的图像边缘增强技术,即索贝尔(SOBEL)算子、拉普拉斯(LAPLAC)算子以及卷积等方法对CCD系统采集...
关键词：X射线光刻 对准系统 拉普拉斯算法 索贝尔算法 
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