热压印光刻技术复制波带片图形研究  

Study on Zone Plate Replication Using Hot Embossing Lithography Technology

作　　者：范东升[1] 王德强[1] 康晓辉[1] 陈大鹏[1] 谢常青[1] 

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室,北京100029

出　　处：《微细加工技术》2005年第3期27-30,共4页Microfabrication Technology

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60236010);973资助项目(G200036504)

摘　　要：针对只需单次曝光的菲涅尔波带片器件,给出了结合电子束光刻和热压印光刻进行大规模复制的完整工艺路线,即首先采用电子束光刻制作热压印模版,之后用热压印光刻进行波带片的大规模复制,所制得的波带片图形的最外环宽度为250 nm,直径为196μm,环数为196环。初步实验结果表明,这种方法具有很好的重复性和易用性,且可以进行低成本波带片的精确复制。A technique that combines electron beam lithography and hot embossing lithography is used to replicate Fresnel zone plate. The Fresnel zone plate mold for hot embossing lithography, with 196 zones, 250 nm outermost zone width and 196 μm diameter, is fabricated using electron beam lithography. The primary experiment results indicate that this method is a high resolution, high throughput and low cost way to replicate pattern in deep submicron scale and has good repeatability and availability.

关 键 词：波带片 纳米压印 热压印 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]