范东升

作品数：3被引量：11H指数：2
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：纳米压印纳米压印光刻T型栅压印微细加工更多>>
发文领域：电子电信更多>>
发文期刊：《微电子学》《微细加工技术》《电子工业专用设备》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
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193 nm光刻散射条技术研究被引量：3
《微电子学》2005年第4期360-363,共4页康晓辉 张立辉 范东升 王德强 谢常青 刘明 
国家自然科学基金资助项目(60376020)
介绍了193nm光刻中的散射条技术,并利用标量衍射和傅里叶光学理论,对掩模和光瞳平面上衍射图形的空间频率进行了深入的分析,从理论上解释了散射条的工作原理。通过商用光刻模拟软件PROLITH,对散射条的参数进行了优化,并总结出193nm光刻...
关键词：光刻 亚分辨率辅助图形 散射条 离轴照明 分辨率增强 光学临近效应校正 
热压印光刻技术复制波带片图形研究被引量：2
《微细加工技术》2005年第3期27-30,共4页范东升 王德强 康晓辉 陈大鹏 谢常青 
国家自然科学基金资助项目(60236010);973资助项目(G200036504)
针对只需单次曝光的菲涅尔波带片器件,给出了结合电子束光刻和热压印光刻进行大规模复制的完整工艺路线,即首先采用电子束光刻制作热压印模版,之后用热压印光刻进行波带片的大规模复制,所制得的波带片图形的最外环宽度为250 nm,直径为19...
关键词：波带片 纳米压印 热压印 
纳米压印光刻模版制作技术被引量：6
《电子工业专用设备》2005年第2期26-32,共7页范东升 谢常青 陈大鹏 
973(G200036504);国家自然科学基金资助项目(60236010)
在下一代光刻技术中,光刻的成本越来越高,这使得工业界开始寻找新的技术。纳米压印作为非光学的下一代光刻技术,具有分辨率高、成本低、产率高等诸多优点,因而可能应用于将来的半导体制造中。同时,纳米压印也可以用于微机电系统(MEMS)...
关键词：纳米压印 模版制作 防粘连处理 
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