对准标记

作品数：17被引量：37H指数：4
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对准标记鲁棒性分析方法及仿真
《光学学报》2023年第11期109-118,共10页周光迎 齐月静 李亮 姜淼 师江柳 么铭怡 
针对复杂结构对准标记仿真需求,联合严格耦合波法和分层近似法提出一种对准标记鲁棒性分析方法。利用该方法构建仿真模型:以晶圆质量和信噪比为评价函数,研究了标记槽深、槽宽、膜层厚度和侧壁对称变形等参数变化对标记鲁棒性的影响;以...
关键词：光刻 对准标记 严格耦合波法 分层近似法 鲁棒性 工艺适应性 
PDMS微流控芯片光刻加工的套刻对准方法被引量：1
《实验室研究与探索》2021年第12期33-36,55,共5页赵幸福 冯泽宇 陈荣进 袁佳琪 赵晓晓 
国家自然科学基金面上项目(31770399);南通市科技计划项目(JC2018089);南通大学人才引进项目(03081068)。
多层通道微流控芯片加工中套刻光刻的对准操作难度较大,结合使用两种对准方法并分步进行实验操作可以降低难度:使用圆套十字架对准标记的对准方法。圆便于识别,可用于粗对准,十字架线条用以精对准,充分发挥圆套十字架标记结构中“面”...
关键词：聚二甲基硅氧烷微流控芯片 套刻 光刻对准 对准标记 掩膜 
用于晶圆键合的对准标记定位算法被引量：6
《仪器仪表学报》2021年第11期220-229,共10页鲁沛昕 杨开明 鲁森 朱煜 
摩檫学国家重点实验室基金(SKLT2020D23)项目资助。
对准标记精确定位是晶圆键合精度实现的关键,为了提高对准标记定位算法的精度、实时性及适应性,提出了一种基于边缘检测拟合定位的高精度对准标记定位算法。该方法结合分级金字塔模型对对准标记进行逐级定位,获得像素级的目标区域粗定...
关键词：晶圆键合对准 对准标记定位 高精度 亚像素 
各类型光刻机对准标记设计分析被引量：1
《电子元器件与信息技术》2020年第10期7-8,共2页李秋 苏婷 
国内芯片缺口比较大,每年从国外进口的芯片超过石油行业,达到三千亿美金以上,半导体芯片目前是国家重点关注的行业,在半导体制造链条中光刻是最核心的一道工序,而光刻机是最核心的设备。本文对各类型光刻机的对准标记进行分析,希望能够...
关键词：半导体 光刻 特征尺寸 
标记非对称变形导致的对准误差修正方法及其在套刻测量中的应用被引量：8
《中国激光》2019年第7期177-184,共8页杜聚有 戴凤钊 王向朝 
国家自然科学基金(61405210,61474129)
硅片对准标记经过光刻工艺后产生的非对称变形会导致对准测量误差,目前普遍采用工艺验证的方法修正此对准测量误差,但该方法存在一定的工艺适应性问题。针对该对准测量误差,提出了一种新的修正方法,即利用非对称变形对准标记在不同照明...
关键词：测量 光刻 套刻 对准 对准标记 非对称变形 
基于VLD终端的光刻对准标记工艺设计
《山东工业技术》2015年第11期269-270,共2页肖步文 孙晓儒 甘新慧 周东飞 尹攀 
采用VLD终端的半导体器件,在工艺流程上首先需要进行终端制备,然后进行有源区的制备,这就需要在终端制备工艺结束之后,留下后续工艺制造所需要的光刻对版标记,本文设计了一种可以实现套刻的光刻对版标记的工艺,并给出了工艺实现的条件。
关键词：氮化硅 VLD终端 双层掩膜 
芯片制作过程中切割道光刻对准标记的优化
《电子与封装》2013年第6期18-20,42,共4页刘丽丽 王永刚 胡惠娟 
在0.18μm高压产品工艺生产过程中,作者发现晶片在钨化学机械研磨制程后会有很严重的钨剥落缺陷,此种缺陷成行排列,有一定规律,与光罩的曝光间隔距离相匹配,该缺陷会导致产品良率有非常明显的下降。同时在生产过程中也发现在MIM上极板...
关键词：半导体技术 缺陷 光刻对准标记 
投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案
《电子工业专用设备》2011年第6期7-9,36,共4页殷履文 盖玉喜 
描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生变形时离轴对准系统能更好地修正偏差从而保证光刻工艺中套刻精度的要求。
关键词：对准系统 标记 相位光栅 
起重机变幅系统的使用与维修(四)
《工程机械与维修》2009年第7期202-205,共4页赵明 赵永域 姚喜民 
2.吊臂变幅马达的分解与组装 （1）分解 参见图27,吊臂变幅马达的分解程序如下。 ①将吊臂变幅马达放在工作台上,从壳体18中拆下塞子16,排放液压油。 ②在壳体18、配流盘盖21和壳体33上作出对准标记。
关键词：变幅系统 起重机 维修 对准标记 分解 马达 吊臂 工作台 
玻璃基片双面光刻对准工艺流程的研究被引量：2
《半导体技术》2006年第8期576-578,共3页王海涌 吴志华 
航天支撑技术基金项目(编号不公开)
介绍了双面光刻对准原理及技术新发展,表明了不变焦对准的技术优势。针对玻璃基片设计了十字加方框的对准图样,经重新调焦,利用基片透明属性透过基片标记观测掩模标记实现对准,不再采用静态存储的掩模数字图像作为精对准基准,规避了可...
关键词：镀膜 双面光刻 双面对准 对准标记 
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