深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0  

Deep-submicron X-ray Lithography Simulation Software XLSS 1.0

作　　者：谢常青[1] 王德强[1] 陈大鹏[1] 叶甜春[1] 伊福廷[2] 韩勇[2] 张菊芳[2] 

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所微细加工与纳米技术研究室,北京100029 [2]中国科学院高能物理研究所同步辐射实验室,北京100039

出　　处：《微细加工技术》2004年第4期27-30,35,共5页Microfabrication Technology

基　　金：973资助项目(G200036504);北京同步辐射装置重点资助项目(BSRF2001-03)

摘　　要：介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件———XLSS1 0。该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模拟计算,发现模拟结果与实验结果吻合很好,且模拟结果的特征尺寸宽度与实验结果的特征尺寸宽度误差小于±10%。An in-house deep-submicron synchrotron radiation X-ray lithography simulation software XLSS 1.0 is introduced. It is based on Object Oriented Programming(OOP) technique.The Beam Propagation Method combined with Fast Fourier Transform(FFT) is used to simulate the mask absorber light waveguide effect. Both the space image intensity distribution on the resist surface and the developed resist profile are simulated accurately. The simulation result tallies with the experiment result well, the critical dimension width error between the simulation result and the experiment result is below ±10%.

关 键 词：X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]