朱效立

作品数：43被引量：112H指数：5
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供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文主题：电子束光刻衍射效率电子束直写衍射光学元件衬底更多>>
发文领域：电子电信机械工程理学核科学技术更多>>
发文期刊：《微细加工技术》《强激光与粒子束》《Journal of Semiconductors》《原子能科学技术》更多>>
所获基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
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相变材料Ge_(2)Sb_(2)Te_(5)的X射线辐照致变效应研究被引量：2
《核技术》2021年第3期7-13,共7页何佩谣 赵越 刘宇 王波 朱效立 
国家自然科学基金(No.U1832217、No.61774166)资助。
相变材料Ge_(2)Sb_(2)Te_(5)由于其独特的光学和电学性质,在光学记录、数据存储等方面具有广泛的应用。在航空航天、安检扫描等一些特定环境中,X射线辐照会使得相变材料发生结构和性能的变化,研究Ge_(2)Sb_(2)Te_(5)在X射线辐照下的结...
关键词：同步辐射 Ge_(2)Sb_(2)Te_(5) X射线光电子能谱 化学键 
随机位相菲涅耳透镜阵列激光束匀化被引量：1
《光子学报》2019年第3期1-8,共8页裴宪梓 梁永浩 王菲 朱效立 谢常青 
国家重点研发计划(Nos.2017YFA0206002;2018YFB1107501);吉林省科技攻关计划(No.20150204047GX);吉林省高校十三五科研规划(No.JJKH20170616KJ);长春理工大学科技创新基金(No.XJJLG-2017-12)~~
为降低干涉带来的影响,将一种随机位相分布引入菲涅耳透镜阵列,对阵列中每一个菲涅耳透镜施加0或π的二值化位相变化,打乱阵列位相的周期性排布,减少微透镜后多光束在匀化面干涉带来的影响.通过数值计算对激光束的匀化过程进行了模拟,...
关键词：激光束均匀化 单模高斯光束 随机位相 菲涅耳透镜阵列 干涉 
大高宽比微纳结构制备关键技术被引量：1
《微纳电子技术》2016年第10期685-690,共6页赵健 董连和 朱效立 谢常青 陈宝钦 史佩雄 
国家青年科学基金资助项目(61308078)
利用HSQ具有的高分辨率、高反差和低边缘粗糙度等突出的优点并通过大量的工艺实验,摸索出电子束曝光剂量、显影液配比、显影时间和显影温度等优化条件,对电子束曝光剂量与线条宽度的关系进行了探索,有效消除了由于散射电子和背散射电子...
关键词：HSQ 电子束光刻 抗蚀剂工艺 CO2超临界干燥 大高宽比结构 
基于移位双光栅色散元件的X射线谱仪研制
《物理学报》2016年第16期160-167,共8页易涛 王传珂 杨进文 朱效立 谢常青 刘慎业 
国家自然科学基金(批准号:11405158;11435011);核废物与环境安全国防重点学科实验室开放基金(批准号:13zxnk06)资助的课题~~
本文针对激光等离子体X射线诊断的需求,设计开发了移位双光栅X射线谱仪.该谱仪采用高线对密度和低线对密度的两种光栅组成移位双光栅作为核心衍射组件,高密度光栅能够提高中、高能区(1000—5000 eV)的能谱分辨率,低密度光栅足够满足低能...
关键词：移位双透射光栅谱仪 惯性约束聚变 衍射效率 时间分辨光谱 
自支撑二值化Beynon-Gab or波带片的制备及其单级聚焦特性
《物理学报》2016年第12期140-146,共7页李兆国 孟令彪 周民杰 刁凯迪 易勇 朱效立 吴卫东 张继成 
国家自然科学基金(批准号:11404304,60908023);国家重大科学仪器设备开发专项(批准号:2014YQ090709)资助的课题~~
Gabor波带片是一种理想的单级聚焦光学元件,但制备困难.本文采用聚焦离子束直写技术成功制备出30环、20扇区的二值化Beynon-Gabor波带片,其有效面积半径为700μm,第一环半径90μm.利用各向异性腐蚀液对硅基底进行开孔,实现了Beynon-Gabo...
关键词：二值化Beynon-Gabor波带片 自支撑 衍射性能 聚焦离子束直写技术 
一种X射线成像型平响应低通滤波技术被引量：2
《光学学报》2016年第5期329-334,共6页袁铮 曹柱荣 朱效立 邓博 李晋 杨志文 洪才浩 刘慎业 杨家敏 赵屹东 
中国工程物理研究院科学技术发展基金(2014B0102010)
提出一种基于掠入射微柱面反射镜阵列的X射线成像型平响应低通滤波技术.根据X射线光学理论,介绍了基于微柱面反射镜阵列的平响应低通滤波原理,分析了元件透射谱的计算方法.基于电子束刻蚀技术在聚酰亚胺衬底上制作了金柱体直径200nm、深...
关键词：X射线光学 平响应低通滤波 掠入射 微柱面镜阵列 同步辐射 
错位双光栅色散元件设计及衍射效率研究被引量：3
《光子学报》2015年第10期65-69,共5页王保清 王传珂 易涛 李廷帅 李晋 朱效立 谢常青 刘慎业 江少恩 丁永坤 
国家自然科学基金(Nos.11405158;11435011)~~
设计了一种错位双光栅色散元件,与条纹相机耦合实现了0.1~5keV范围X射线时间分辨谱的测量.该色散元件由2 000lp/mm和5 000lp/mm两块子光栅在空间错位排布而成,低密度光栅测量低能段软X射线（100~1 000eV）,高密度光栅测量中能段软X射线...
关键词：错位双光栅 实验标定 衍射效率 时间分辨谱 激光等离子体诊断 
高效率X射线光刻在单级光栅研制中的应用
《微纳电子技术》2015年第4期246-250,共5页施百龄 董连和 朱效立 谢常青 曹磊峰 况龙钰 刘慎业 
国家重大科学仪器开发专项资助项目(2012YQ13012504)
为了满足单级衍射光栅的应用需求,在器件研制中对X射线光刻的关键技术进行优化,克服了曝光中图形畸变的问题,并利用同步辐射光源对单级衍射光栅进行了高效率的批量复制。通过对X射线光谱成分进行模拟,在X射线束线中插入铬反射镜和氮化...
关键词：X射线光刻 单级衍射光栅 光谱优化 掩模校正 曝光间隙控制 
高线密度X射线双光栅的研制被引量：2
《微纳电子技术》2014年第6期381-385,共5页何宽 易涛 刘慎业 牛洁斌 陈宝钦 朱效立 
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2012AA040405);国家自然科学基金创新群体资助项目(61221004)
研究了采用高分辨率的100 kV电子束光刻和光学光刻系统相结合制作高线密度X射线双光栅的工艺技术,并且分析了电子束邻近效应校正技术在高线密度光栅制备中的应用。首先,利用电子束曝光和纳米电镀技术在同一衬底上制备两种不同线密度光...
关键词：X射线双光栅 自支撑透射光栅 电子束光刻 纳米电镀 电子束邻近效应校正(EPC) 
高线密度X光透射光栅衍射效率被引量：2
《强激光与粒子束》2012年第10期2347-2350,共4页张文海 曹磊峰 朱效立 谢常青 刘慎业 
国家自然科学基金项目(61107032)
高线密度X光透射光栅是各种高分辨光栅摄谱仪的核心色散元件,为了获得较高的光谱分辨率,工作在2～5keV能区的光谱仪需要使用5000l/mm的X射线透射光栅。为了获得光栅的绝对衍射效率,采用同步辐射光在多个能点对5000l/mm的X光透射光栅进...
关键词：透射光栅 衍射效率 实验标定 高线密度 
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