光掩膜厂商在浸没式光刻时代的生存之道  

作　　者：Aaron Hand 

机构地区：[1]Semiconductor International责任编辑

出　　处：《集成电路应用》2006年第7期28-28,共1页Application of IC

摘　　要：在不久前召开的SPIE Microlithography（国际光学工程学会微光刻技术年度会议）上，BACUS（国际光掩膜技术学会）组织了一次圆桌会议，来自光刻技术领域的专家们就193纳米浸没式光刻技术中光掩膜工艺的发展趋势展开了激烈的讨论。会议的中心话题为光掩膜制造商是沉是浮？

关 键 词：微光刻技术 掩膜技术 浸没式 国际光学工程学会 厂商 圆桌会议 SPIE 发展趋势 膜工艺 制造商 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学] TM914.4[电气工程—电力电子与电力传动]