检索规则说明:AND代表“并且”;OR代表“或者”;NOT代表“不包含”;(注意必须大写,运算符两边需空一格)
检 索 范 例 :范例一: (K=图书馆学 OR K=情报学) AND A=范并思 范例二:J=计算机应用与软件 AND (U=C++ OR U=Basic) NOT M=Visual
出 处:《电子工业专用设备》2010年第12期57-57,共1页Equipment for Electronic Products Manufacturing
摘 要:SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH & Co.KG宣布,已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产,是用于下一代光刻领域的完整掩模流程平台。
关 键 词:光刻设备 市场 技术 下一代光刻 GmbH APE 掩模
分 类 号:TN305.7[电子电信—物理电子学]
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