EUV

作品数：188被引量：185H指数：6
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EUV抗蚀材料(二甲氨基)三甲基锡的制备与提纯
《上海化工》2025年第1期31-35,共5页冯勇 胡浩杰 周少方 刘鲁杰 凌芳 
先使无水二甲胺、三甲基氯化锡发生络合反应,再用正丁基锂消去氯离子,得到(二甲氨基)三甲基锡粗品。粗品经过离心,脱溶,减压精馏(系统压力不大于10 Pa,塔身温度为41~44℃)得到目标产物高性能极紫外光(EUV)抗蚀材料(二甲氨基)三甲基锡。...
关键词：抗蚀材料 恒温精馏 半导体材料 
纳米金属氧簇EUV光刻胶及其性能影响因素
《中国科学：化学》2024年第12期2452-2462,共11页邢攸美 胡涛 方伟华 尹云舰 高立江 刘伟鑫 徐钉 金海安 王国杰 
随着半导体行业的发展,先进电子技术亟需更高电子元件密度的集成电路(integrated circuit,亦称积体电路).在集成电路光刻技术(photolithography,亦称微影技术)中,图案化特征结构的尺寸主要取决于曝光光源的波长.为将图形化尺寸推到更小...
关键词：纳米结构 金属氧簇 极紫外 光刻胶 半导体集成电路 
Wavelength-multiplexed multi-mode EUV reflection ptychography based on automatic differentiation被引量：1
《Light(Science & Applications)》2024年第10期2156-2167,共12页Yifeng Shao Sven Weerdenburg Jacob Seifert H.Paul Urbach Allard P.Mosk Wim Coene 
the project Lensless Imaging of 3D Nanostructures with Soft X-Rays(LINX)with project number P16-08 of the Perspectief research programme financed by the Dutch Research Council(NWO).
Ptychographic extreme ultraviolet(EUV)diffractive imaging has emerged as a promising candidate for the next generationmetrology solutions in the semiconductor industry,as it can image wafer samples in reflection geome...
关键词：metrology mode APPROACHING 
Particle-in-cell simulations of EUV-induced hydrogen plasma in the vicinity of a reflective mirror
《Plasma Science and Technology》2024年第8期95-103,共9页张宇强 余新刚 叶宗标 
supported by National Natural Science Foundation of China(Nos.12172356,U23B20110);the Interdisciplinary and Collaborative Teams of CAS。
Particle-In-Cell(PIC)simulations were performed in this work to study the dynamics of the EUVinduced hydrogen plasma.The Monte-Carlo Collision(MCC)model was employed to deal with the collisions between charged particl...
关键词：LITHOGRAPHY PARTICLE-IN-CELL EUV EUV-induced plasma PIC-MCC 
太阳极紫外图像亚像素圆心检测方法
《上海航天(中英文)》2024年第S1期246-252,共7页王相 张立国 孙亮 武昆 于思博 王彭 
国家自然科学基金(12273040)
准确检测太阳极紫外(EUV)图像中太阳圆心位置是实现图像配准的重要手段,由于太阳EUV图像边缘模糊,传统圆心检测方法存在漏检、错检现象。本文提出了一种亚像素级圆心和半径检测算法。首先,应用Canny算子进行全局边缘检测,并抑制非径向...
关键词：圆心检测 边缘检测 Logistic拟合 亚像素拟合 太阳EUV图像 
用于EUV图案化的新型氧化锌簇交联策略的辐射化学被引量：2
《Science China Materials》2024年第5期1588-1593,共6页司友明 周丹红 赵俊 彭译锋 陈鹏忠 樊江莉 彭孝军 
financially supported by the National Natural Science Foundation of China(21925802 and 22338005);Liaoning Binhai Laboratory(LBLB-2023-03);the Fundamental Research Funds for the Central Universities(DUT22LAB601)。
由于C=C双键交联反应机制的成熟,金属氧化物光刻胶得到了广泛的发展.然而,由于不稳定的C=C双键,这种材料需要低温和遮光存储.在此,首次在金属氧簇中提出了C-F键交联策略用于光刻图案化.以光刻胶Zn-TBA为例,它形成光滑无缺陷的薄膜,且表...
关键词：zinc-oxo cluster C-F crosslinking extreme ultraviolet lithography radiation chemistry lithography mechanism 
基于归一化的高精度EUV反射率测试技术研究
《中国激光》2024年第7期196-202,共7页张良乐 韩晓泉 谢婉露 吴晓斌 方旭晨 高梓翔 沙鹏飞 王魁波 
国家自然科学基金面上项目(62071464)。
基于使用气体放电等离子体(DPP)极紫外(EUV)光源自研的小型反射率测试装置,分析了DPP光源参数及不同型号探测器对反射率测试的影响,提出了一种能量归一化的反射率测试方法,并测试了13.5 nm波长下Mo/Si多层膜反射镜的反射率特性。研究结...
关键词：极紫外 气体放电等离子体光源 反射率 能量探测 归一化 
面向EUV光源的实验流体力学研究进展
《力学进展》2024年第1期138-172,共35页邓巍巍 翟天琪 高立豪 许晟昊 赵新彦 刘艳初 
国家自然科学基金(12327803,11932009);广东省基础与应用基础研究基金(2022A1515110355)资助项目.
EUV(极紫外)光源是EUV光刻机的核心部件,其原理是基于纳秒脉冲激光轰击锡液滴靶产生的等离子体辐射发光.EUV光源本质是一种流体光源,涉及丰富而复杂的流体力学基本问题,跨越从皮秒到毫秒的四个特征时间尺度.本文综述了面向EUV光源的实...
关键词：EUV 激光 实验流体力学 等离子体 
End-to-end computational design for an EUV solar corona multispectral imager with stray light suppression
《Astronomical Techniques and Instruments》2024年第1期31-41,共11页Jinming Gao Yue Sun Yinxu Bian Jilong Peng Qian Yu Cuifang Kuang Xiangzhao Wang Xu Liu Xiangqun Cui 
This study is partially supported by the National Natural Science Foundation of China(NSFC)(62005120,62125504).
An extreme ultraviolet solar corona multispectral imager can allow direct observation of high temperature coronal plasma,which is related to solar flares,coronal mass ejections and other significant coronal activities...
关键词：EUV solar corona imager Curved grating Stray light suppression Computational multispectral imaging 
Visualizing the ultra-structure of microorganisms using table-top extreme ultraviolet imaging被引量：4
《PhotoniX》2023年第1期605-619,共15页Chang Liu Wilhelm Eschen Lars Loetgering Daniel S.Penagos Molina Robert Klas Alexander Iliou Michael Steinert Sebastian Herkersdorf Alexander Kirsche Thomas Pertsch Falk Hillmann Jens Limpert Jan Rothhardt 
Strategy and Innovation Grant from the Free State of Thuringia(41-5507-2016);Innovation Pool of the Research Field Matter of the Helmholtz Association of German Research Centers(project FISCOV);Leibniz Research Cluster InfectoOptics(SAS-2015-HKI-LWC);Thüringer Ministerium für Bildung,Wissenschaft und Kultur(2018 FGR 0080);Helmholtz Association(incubator project Ptychography 4.0);Fraunhofer-Gesellschaft(Cluster of Excellence Advanced Photon Sources);German Research Foundation(Deutsche Forschungsgemeinschaft,DFG)under Germany’s Excellence Strategy–EXC 2051–Project-ID 390713860;S.H.is supported by the German Research Foundation(Deutsche Forschungs-gemeinschaft,DFG)–SFB 1127/2 ChemBioSys–239748522.
Table-top extreme ultraviolet(EUV)microscopy offers unique opportunities for label-free investigation of biological samples.Here,we demonstrate ptychographic EUV imaging of two dried,unstained model specimens:germling...
关键词：EUV PTYCHOGRAPHY MICROORGANISM HHG 
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