极紫外

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激光焦斑尺寸对极紫外辐射影响的理论研究
《强激光与粒子束》2025年第5期52-66,共15页蓝翔 李学成 杨顺熠 唐桧波 况龙钰 胡广月 
国家自然科学基金项目(12175230,11775223,12205298);中国科学院战略先导专项项目(XDB16);统筹推进世界一流大学和一流学科建设专项资金资助项目(YD2140002006)。
为了解激光焦斑尺寸对极紫外转换效率影响及产生影响的物理机制,通过理论解析的方式提出了激光烧蚀平面靶产生冕区等离子体的二维瞬态膨胀模型来研究激光焦斑对极紫外光转换效率的影响。发现在激光光强7.45×10^(10) W/cm^(2)、半高全宽...
关键词：激光等离子体 极紫外辐射 激光焦斑尺寸 理论解析 二维膨胀 
极紫外掩模的同步辐射在波长高分辨成像仿真研究
《核技术》2025年第3期43-53,共11页苏子净 刘海岗 孟祥雨 张祥志 赵波 郭智 王勇 邰仁忠 
国家重点基础研究发展计划(973计划)(No.2021YFA1601000);国家自然科学基金(No.12175297)资助。
极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻要求近乎无缺陷的EUV掩模,需要对EUV掩模缺陷进行高分辨率的在波长成像分析,分析结果用于后续的修复工艺。同步辐射可以提供优质、洁净的EUV光,结合傅里叶合成照明技术,可有效合成较大的数值孔径(Nu...
关键词：EUV掩模缺陷分析 同步辐射 傅里叶合成照明 椭圆离轴波带片 
激光锡等离子体的状态参数分布和极紫外波段辐射的模拟研究
《物理学报》2025年第3期1-15,共15页敏琦 王国栋 何朝伟 何思奇 卢海东 刘兴邦 武艳红 苏茂根 董晨钟 
国家自然科学基金(批准号:12474279,12064040,12464036,12374384);中央引导地方财政专项(批准号:23ZYQA293)资助的课题。
激光锡(Sn)等离子体光源是当前先进极紫外(EUV)光刻机中最为核心的分系统,其辐射出的13.5 nm附近2%带宽内的EUV光的功率值和稳定性是决定整个光刻机是否成功的关键指标之一,本文针对激光Sn等离子体光源这一复杂系统,开展了详细的关于等...
关键词：极紫外光刻光源 激光锡等离子体 辐射流体力学程序 极紫外光谱 
阿秒条纹时间延迟及动量振荡振幅的研究
《光子学报》2025年第1期201-210,共10页谢梦飞 姜维超 
国家自然科学基金(Nos.12074265,12474346);广东省基础与应用基础研究基金(No.2022A1515010329)。
求解氦原子三维含时薛定谔方程,建立弱场近似经典解析模型,研究光电子中的阿秒条纹时间延迟和动量振荡振幅。发现阿秒条纹时间延迟和动量振荡振幅强烈依赖于极紫外脉冲的光子能量和红外脉冲的波长。阿秒条纹时间延迟对极紫外脉冲持续时...
关键词：原子光学 强场激光物理学 红外 极紫外 光电离 超快现象 
新的摩尔定律机器
《科技纵览》2025年第1期41-41,共1页
极紫外光光刻(EUV)技术是制造最先进的计算机芯片所必需的工具,这项技术在行业应用也仅仅5年时间。然而,芯片行业已经迫切需要下一代技术了,也就是高数值孔径(NA)极紫外光光刻技术。该技术通过扩大系统可操控光线的角度范围,进一步提高...
关键词：高数值孔径 EUV技术 极紫外光光刻 
纳米金属氧簇EUV光刻胶及其性能影响因素
《中国科学：化学》2024年第12期2452-2462,共11页邢攸美 胡涛 方伟华 尹云舰 高立江 刘伟鑫 徐钉 金海安 王国杰 
随着半导体行业的发展,先进电子技术亟需更高电子元件密度的集成电路(integrated circuit,亦称积体电路).在集成电路光刻技术(photolithography,亦称微影技术)中,图案化特征结构的尺寸主要取决于曝光光源的波长.为将图形化尺寸推到更小...
关键词：纳米结构 金属氧簇 极紫外 光刻胶 半导体集成电路 
空间X射线、极紫外、远紫外波段光学技术及应用(特邀)
《光学学报》2024年第24期11-22,共12页王孝东 龚博文 王彭 郭权锋 何玲平 刘世界 宋克非 陈波 
国家自然科学基金(U1531106,U1631117,U1731114,U1931118,U2031122,12273040)。
空间X射线、极紫外、远紫外波段光学技术是太阳、空间环境监测的有效手段之一,利用该波段成像和光谱监测技术:一方面可监测太阳耀斑爆发、磁场爆发和日冕物质抛射等对地球空间环境影响最大的太阳活动现象,预报和预警太阳变化;另一方面...
关键词：X射线 极紫外 远紫外 空间光学技术 空间天气 
基于图像去模糊算法的缺陷检测信号增强方法
《中国激光》2024年第23期63-71,共9页王强 曾志男 
国家自然科学基金(91950203,11874374)。
极紫外(EUV)光刻是目前最先进的光刻技术,但是曝光过程中掩模上极小的缺陷也会导致晶圆的关键尺寸发生很大变化。因此,若要保证极紫外光刻良品率,缺陷检测算法就必须具备对掩模上的极小缺陷进行检测的能力。目前的一些缺陷检测方法受实...
关键词：极紫外光刻 掩模缺陷检测 图像去模糊 信号增强 
自支撑极紫外滤片制备工艺有限元仿真及优化
《激光与光电子学进展》2024年第23期349-356,共8页李笑然 谢模杰 陈逸文 赵娇玲 
金属及非金属材料均可用于制备具有极紫外波段高透射率的超薄自支撑薄膜滤片。然而不当的工艺参数和实验条件设置会直接导致制备过程中的薄膜发生破裂。本文使用有限元仿真模拟了自支撑薄膜的关键制备步骤,仿真计算出薄膜在不同情况下...
关键词：薄膜 自支撑 有限元分析 极紫外波段 光学制造 
极紫外自由电子激光辐照Ni薄膜损伤机制温度效应分子动力学研究
《光子学报》2024年第11期40-50,共11页汤鸣 鲁爽 胡张麟 李淑慧 恽超 胡音晫 陈杰 李文斌 王占山 
国家自然科学基金(No.12275195)。
利用双温模型和分子动力学结合的方法,研究了13.5 nm极紫外自由电子激光辐照下Ni薄膜的初始温度效应对熔融损伤机制的影响。模拟获得了不同初始温度Ni薄膜的熔融损伤阈值,发现阈值随初始温度升高而降低,并且薄膜熔融损伤存在膜内均匀熔...
关键词：自由电子激光 分子动力学 损伤机制 薄膜反射镜 双温模型 
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