光刻材料

作品数：15被引量：45H指数：3
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多样的烘焙
《科学画报》2023年第12期41-41,共1页李艳丽 王濠涌 陈适 伍强 
一般来说,光刻工艺流程包含8个步骤,分别是表面增粘处理、旋涂光刻胶等光刻材料、曝光前烘焙(前烘焙)、对准和曝光、曝光后烘焙(后烘焙)、显影和冲洗、显影后烘焙以及测量。其中,有三步属于烘焙工艺。烘焙是指以一定的温度对硅片加热一...
关键词：烘焙 光刻胶 光刻工艺 光刻材料 曝光 显影 
先进光刻材料被引量：8
《应用化学》2022年第6期859-870,共12页李自力 徐兴冉 湛江浩 胡晓华 张子英 熊诗圣 
国家自然科学基金(Nos.U20A20227,61974030);复旦大学科研启动项目(No.JIH1232090)资助。
随着半导体产业的技术发展与进步,芯片制造在摩尔定律的推动下也在不断向先进工艺节点推进。与此同时,我们迫切需要开发与之相匹配的光刻材料来满足光刻图形化的快速发展需求。本文从光刻材料的成分和性能出发,介绍了光刻图形化技术所...
关键词：先进光刻技术 导向自组装光刻 光刻胶 共轭聚合物光刻材料 化学放大胶 
基于天然高分子的可再生光刻材料的研究进展被引量：2
《精细化工》2021年第10期1945-1955,共11页陕绍云 王守宏 支云飞 
昆明市科学技术局科技计划基金(2019-1-G-25318000003480);国家自然科学基金(21766016);云南省“万人计划”基金(YNWR-QNBJ-2018-198);云南省基础研究计划青年项目(202001AU070023);倪永浩院士工作站(2019IC002);昆明市科学技术局科技创新要素聚集计划重点项目(2019-1-A-24657)。
与传统基于石油原料的光刻材料相比,基于天然高分子的可再生光刻材料不仅保留了高分辨率的光刻性能,还具有绿色可再生和无毒显影等优点。重点综述了天然高分子光刻材料中的蛋白类光刻材料和多糖类光刻材料,总结了各种天然高分子光刻材...
关键词：天然高分子 可再生性 光刻材料 光刻机理 动物蛋白 天然多糖 
光刻材料的发展及应用被引量：25
《信息记录材料》2015年第1期36-51,共16页庞玉莲 邹应全 
简述了光刻技术及光刻材料的发展过程及发展趋势,对光刻技术在集成电路和半导体分立器件的微细加工以及印刷电路板、平板显示器、触摸屏等制作过程中的应用进行了概述。并重点围绕光刻胶在集成电路制造中的应用,对其反应机理、应用性能...
关键词：光刻技术 光刻材料 光刻胶 抗蚀剂 市场前景 
极紫外光刻材料研究进展被引量：6
《红外与激光工程》2014年第6期1850-1856,共7页耿永友 邓常猛 吴谊群 
上海光源中国科学院大科学装置开放研究项目(自组装技术与超高密度纳米阵列研究)
极紫外光刻是微电子领域有望用于下一代线宽为22nm及以下节点的商用投影光刻技术,光刻材料的性能与工艺是其关键技术之一。为我国开展极紫外光刻材料研究提供参考,综述了最近几年来文献报道的研究成果,介绍了极紫外光刻技术发展历程、...
关键词：极紫外光刻 极紫外光刻材料 极紫外光刻性能 
KLA-Tencor推EUV计算光刻工具PROLITHTM 12
《电子工业专用设备》2008年第10期67-67,共1页
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线（EUV）光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。
关键词：光刻材料 KLA 工具 计算 EUV 成本效益 研究人员 研发机构 
KLA—TENCOR推出新型计算光刻工具
《中国集成电路》2008年第11期8-8,共1页
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线（EUV）光刻有关的各种光掩模设计、光刻材料及工艺的可行性。
关键词：光刻材料 KLA 工具 计算 芯片制造商 成本效益 研究人员 研发机构 
KLA—TENCOR推出PROLITH^TM 12
《中国集成电路》2008年第10期5-5,共1页
KLA—Tencor公司近日推出了PROLITH^TM 12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线（EUV）光刻有关的各种光罩设计、光刻材料及工艺的可行性。...
关键词：KLA EUV光刻 光刻材料 研发机构 成本效益 研究人员 制造商 紫外线 
193nm浸没式光刻材料的研究进展被引量：3
《半导体技术》2008年第9期743-747,共5页何鉴 高子奇 李冰 郑金红 穆启道 
国家"十一五"重点攻关计划支持项目(JPPT-115-490)
介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述。并对顶部涂料存在的问题进行了阐述。对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体...
关键词：193 nm浸没式光刻 浸没液体 顶部涂料 光刻胶 
罗门哈斯公司宣布与IBM公司达成开发注入解决方案的协议
《电子质量》2008年第3期74-75,共2页
罗门哈斯电子材料公司（Rohm and Haas Electronic Materials）是为半导体行业提供高级光刻材料的领先企业。该公司与TBM公司签署了联合开发协议，共同开发电路图案成形（parterning）材料和工艺，为32纳米及其以下节点的注入（implant...
关键词：罗门哈斯公司 IBM公司 罗门哈斯电子材料公司 开发 协议 半导体行业 Haas 光刻材料 
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