KLA—TENCOR推出新型计算光刻工具  

出　　处：《中国集成电路》2008年第11期8-8,共1页China lntegrated Circuit

摘　　要：KLA—Tencor公司近日推出了PROLITHTM12，这是一款业界领先的新版计算光刻工具。此新版工具让领先的芯片制造商及研发机构的研究人员能够以具有成本效益的方式探索与极紫外线（EUV）光刻有关的各种光掩模设计、光刻材料及工艺的可行性。

关 键 词：光刻材料 KLA 工具 计算 芯片制造商 成本效益 研究人员 研发机构 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学] TS802[轻工技术与工程]