穆启道

作品数：5被引量：46H指数：3
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供职机构：北京科华微电子材料有限公司更多>>
发文主题：光刻胶微电子技术高纯试剂集成电路浸没式更多>>
发文领域：电子电信化学工程经济管理更多>>
发文期刊：《集成电路应用》《精细与专用化学品》《影像科学与光化学》《化学试剂》更多>>
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用于浸没式工艺的光刻胶研究进展被引量：2
《影像科学与光化学》2009年第5期379-390,共12页何鉴 盛瑞隆 穆启道 
北京市科技计划项目(课题编号:Z08080302110801)
浸没式光刻技术是在原干法光刻的基础上采用高折射率浸没液体取代原来空气的空间,从而提高光刻分辨率的一种先进技术.此项技术的实际应用,为当前IC产业的飞速发展起到了关键的作用.本文概述了浸没式光刻技术的发展历程和浸没式光刻胶遇...
关键词：浸没式光刻 光刻胶 主体树脂 光致产酸剂 
我国超净高纯试剂市场需求及产业化前景被引量：11
《精细与专用化学品》2008年第23期18-21,共4页穆启道 
一 微电子技术发展现状及趋势 随着集成电路集成度的不断提高，电路的线宽越来越细。从第一个晶体管问世算起．半导体技术的发展已有多半个世纪了．现在它仍保持着强劲的发展态势，继续遵循Moore定律，即芯片集成度18个月翻一番．每三...
关键词：超净高纯试剂 产业化前景 市场需求 电路集成度 Moore定律 ROADMAP 半导体技术 技术发展现状 
193nm浸没式光刻材料的研究进展被引量：3
《半导体技术》2008年第9期743-747,共5页何鉴 高子奇 李冰 郑金红 穆启道 
国家"十一五"重点攻关计划支持项目(JPPT-115-490)
介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战。在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述。并对顶部涂料存在的问题进行了阐述。对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体...
关键词：193 nm浸没式光刻 浸没液体 顶部涂料 光刻胶 
集成电路制作技术的发展与超净高纯试剂的应用被引量：10
《集成电路应用》2003年第2期56-60,共5页穆启道 
本文根据集成电路制作技术的不同发展阶段对超净高纯试剂的不同要求,阐述了超净高纯试剂的应用、需求及发展状况。
关键词：集成电路 制作技术 超净高纯试剂 应用 发展 
超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术被引量：33
《化学试剂》2002年第3期142-145,共4页穆启道 
对国内外微电子技术配套专用超净高纯试剂进行了评述
关键词：超净高纯试剂 应用 制备 湿法清洗 半导体 刻蚀 
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