集成电路制作技术的发展与超净高纯试剂的应用  

作　　者：穆启道[1] 

机构地区：[1]北京化学试剂研究所,100022

出　　处：《集成电路应用》2003年第2期56-60,共5页Application of IC

摘　　要：本文根据集成电路制作技术的不同发展阶段对超净高纯试剂的不同要求,阐述了超净高纯试剂的应用、需求及发展状况。

关 键 词：集成电路 制作技术 超净高纯试剂 应用 发展 

分 类 号：TN405[电子电信—微电子学与固体电子学]