KLA—Tencor推出PROLITH（TM）X3．1光刻模拟软件  

机构地区：[1]本刊通讯员

出　　处：《电子与封装》2010年第3期45-46,共2页Electronics & Packaging

摘　　要：2月19日专为半导体和相关产业提供制程控制及成品率管理解决方案的全球领先供应商KLA．Tencor公司推出了他们最新一代的PROLITH光刻模拟软件。PROLITHX3．1让处于前沿领先地位的芯片厂商、研发机构及设备制造商能够迅速且极具成本效益地解决EUV和两次图像合成光刻（DPL）制程中的挑战性问题，

关 键 词：模拟软件 KLA 光刻 制程控制 设备制造商 相关产业 芯片厂商 图像合成 

分 类 号：TN873.93[电子电信—信息与通信工程]