浸没式ARF光刻

作品数：6被引量：6H指数：2
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相关领域：电子电信更多>>
相关作者：李艳秋张飞樊明哲黄国胜刘晓林更多>>
相关机构：中国科学院北京理工大学宁波南大光电材料有限公司中国科学院研究生院更多>>
相关期刊：《微细加工技术》《电子工业专用设备》《江苏科技信息》更多>>
相关基金：国家重点基础研究发展计划中国科学院“百人计划”国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
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专利引证视角下技术轨道演化及核心技术识别——以“卡脖子”技术浸没式ArF光刻胶为例
《江苏科技信息》2025年第7期55-59,66,共6页许思娴 
江苏高校哲学社会科学研究项目一般项目,项目名称:基于主路径分析的专利技术轨道动态演化及核心技术识别研究,项目编号:2022SJYB0223;江苏省科技资源(工程技术文献)统筹服务平台自主研究课题,项目名称:高端半导体光刻胶领域核心技术识别研究;项目编号:TC2023C004。
专利是反映技术创新的重要手段,专利引证关系能够客观反映技术的关联发展,帮助挖掘技术轨道的动态演变。文章以“卡脖子”技术浸没式ArF光刻胶技术为研究对象,根据专利族之间的引证数据构建浸没式ArF光刻胶技术引文网络进行网络特征和...
关键词：专利引证网络 技术轨道 技术主路径 光刻胶 
浸没式ArF曝光过程中液体热性能分析
《微细加工技术》2007年第3期13-17,共5页樊明哲 李艳秋 
国家自然科学基金资助项目(10674134);973计划资助项目(2003CB716204)
浸没式ArF曝光系统在最后一面物镜和晶圆之间引入液体作为成像介质。曝光过程中,液体存在热分布变化,并引起液体折射率的改变,导致光刻性能下降,因此,有必要确定液体热分布变化的情况。应用有限元方法,建立二维模型,分析液体在不同进口...
关键词：浸没式ARF光刻 液体 热分布 有限元 
浸没式ArF光刻最新进展被引量：3
《电子工业专用设备》2006年第3期27-35,共9页李艳秋 
国家863项目;973项目（No.2003CB716204.）的资助
简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题,在跟踪报道国内外最新研究进展的同时,介绍前沿光刻技术的研发特点和研究手段,强调协同设计研究的重要地位,并揭示浸没式ArF光刻不是干式ArF光刻的简单移置和延续。
关键词：浸没式ARF光刻 下一代光刻 PROLITH MicroCruiser 分辨率增强 
分辨力增强技术在65nm浸没式ArF光刻中的应用被引量：3
《电子工业专用设备》2004年第11期9-13,22,共6页李艳秋 黄国胜 
首次利用自主研发的光刻辅助设计软件MicroCruiser结合Prolith8.0.2,研究了分辨力增强技术在65nm浸没式ArF光刻中的应用,研究表明,相移掩模结合传统照明可以获得较大的工艺窗口,但是,引起的曝光图形偏移较大。而传统掩模结合离轴照明可...
关键词：浸没式ARF光刻 下一代光刻 像差和图形偏移 工艺窗口 光刻仿真 
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