移相掩模为光学微细加工技术增添新武器  

作　　者：刘恩荣[1] 

机构地区：[1]机电部第四十五研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1991年第2期1-8,共8页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：通过对国外光学微细加工技术发展现状的介绍,和对提高光学成像分辨率的各种途径的分析比较,提出了在加强光学曝光设备和抗蚀剂材料工艺开发的同时,立即着手研究移相掩模技术的主张。

关 键 词：光学 微细加工 移相掩模 掩模 加工 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]