充满活力的光学微细加工技术  

作　　者：刘恩荣[1] 

机构地区：[1]机电部第四十五研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1990年第2期1-12,共12页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：本文简要评述了近年来国外光学微细加工技术的最新进展。常规光学曝光己可满足16MDRAM生产的要求;准分子激光曝光有能力实现64M甚至256MDRAM生产;宽带步进扫描曝光机和激光图形制作系统也在集成电路制造中显示了强大实力。九十年代仍将是光学微细加工技术继续占居主导地位的时代。

关 键 词：光学 微细加工 光刻 半导体器件 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]