移相掩模技术及其发展前景  

作　　者：刘恩荣[1] 

机构地区：[1]机电部第四十五研究所

出　　处：《电子工业专用设备》1992年第4期30-39,共10页Equipment for Electronic Products Manufacturing

摘　　要：移相掩模技术的出现和在高密度微电子器件研制中的成功应用,是近几年来光学微细加工技术发展的最主要成果。本文在具体介绍移相掩模基本原理、结构工艺改进以及最新应用成果的基础上,展望了光学微细加工技术的发展前景。并指出,在大力研制高性能实用步进曝光设备的同时,重点研究移相掩模或移相光刻技术,已成为迅速改变我国光学微细加工技术落后面貌的必由之路。

关 键 词：光学微细加工 移相掩模 掩模 发展 

分 类 号：TN405.7[电子电信—微电子学与固体电子学]