纳米压印光刻技术的研究与发展  

Research and development of nanoimprint lithography technology

作　　者：陈建刚[1,2] 魏培[1] 陈杰峰[2] 赵知辛[2] 何雅娟[2] 

机构地区：[1]西安交通大学机械工程学院,陕西西安710049 [2]陕西理工学院机械工程学院,陕西汉中723000

出　　处：《陕西理工学院学报（自然科学版）》2013年第5期1-5,9,共6页Journal of Shananxi University of Technology:Natural Science Edition

基　　金：国家863高技术研究发展计划资助项目(2011AA100507);陕西省教育厅2011年专项科研项目(11JK0549);陕西理工学院2012年校级横向项目(12SXLG4250485)

摘　　要：介绍纳米压印光刻技术的研究现状和发展状况,分析常用的热压印(Hot Embossing Lithography,HEL)、紫外固化压印(Ultra Violet Nanoimprint Lithography,UV-NIL)及微接触压印(Micro Contact Printing,μ-CP)三种光刻的工艺过程。探讨纳米压印光刻方法的优缺点及影响压印图形质量的主要因素,旨在加深对纳米压印光刻工艺过程(模具制作、压印过程及图形转移)深层次的理解和认识,从而解决纳米压印光刻过程中存在的一些关键问题,为新型纳米压印技术的研究和发展提供必要的科学依据。This paper introduces the research and development of nanoimprint lithography technology and analyzes the three common lithography processes, hot press printing （Hot embossing lithography, HEL）, UV curing stamping （Ultra violet nanoimprint lithography, UVNIL） and Micro Contact stamping （Micro Con tact printing, μ-CP）. For getting better quality, the method and main factors of nanoimprint lithography pat tern are discussed, for the purpose of deepening the understanding of the nanoimprint lithography process （mould fabrication, stamping process and pattern transfer）, solving some key problems of the nanoimprint li thography process, and providing the necessary scientific basis for ：research and development the new nanoimprint lithography technology.

关 键 词：纳米压印 工艺过程 图形质量 关键问题 

分 类 号：TN305.7[电子电信—物理电子学]