纳米加工中的光驻波场研究  

Investigation on Light Standing Wave Field in Nanofabrication

作　　者：陈献忠[1] 姚汉民[1] 李展[1] 陈元培[1] 罗先刚[1] 康西巧[1] 

机构地区：[1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,四川成都610209

出　　处：《光电工程》2000年第6期25-29,共5页Opto-Electronic Engineering

基　　金：中国科学院知识创新工程资助项目!(A2 K0 0 0 9)

摘　　要：介绍了纳米加工中的光驻波场 ,分别对单反射面和双反射面形成的驻波进行了分析 ,并对不同区域的光强分布进行了理论推导。最后对如何形成高质量的光驻波场进行了探讨。The light standing wave field in nanofabrication is introduced. The analysis for the standing wave formed in single reflecting surface and double reflecting surface is carried out,respectively.The light intensity distributions in the different zones are derived in theory.Some investigations are carried out for how the high quality standing wave field is formed in the end.

关 键 词：纳米加工 光驻波 光强分布 光场 

分 类 号：O436.1[机械工程—光学工程]