美国西南研究院为DARPA研发新型薄膜沉积技术  

作　　者：郭朝邦 毕世龙 

出　　处：《战术导弹技术》2013年第5期30-30,共1页Tactical Missile Technology

摘　　要：据Nanowerk网站7月15日报道，DAPRA授予了美国西南研究院（SwRI）一份价值150万美元，为期_二年的合同，旨在研发新型薄膜沉积技术。该项目隶属于DAPRA的材料合成局部控制计划（Local Control of Materials Synthesis，LoCo）。LoCo计划致力于研究将薄膜涂层沉积到各种材料表面的非热能方法，其目标是通过研究分子组分水平的薄膜沉积工艺在区域上的反应通量、表面迁移率、反应能等来克服对高热能输入的依赖。

关 键 词：薄膜沉积技术 美国西南研究院 DARPA 研发 表面迁移率 控制计划 材料合成 材料表面 

分 类 号：TN304.26[电子电信—物理电子学]