首饰设计中的曲面投影技术研究  

作　　者：叶瑾瑜[1] 杨宇[2] 刘颢[3] 

机构地区：[1]中国地质大学江城学院 [2]揭阳职业技术学院 [3]武汉数字工程研究所

出　　处：《艺术教育》2013年第10期170-171,共2页Art Education

摘　　要：文章介绍了曲面投影方法的发展和应用,提出在首饰设计中引入保长与保角映射的思想。从几何性质和图案形式美的角度,分析了保长和保角映射的优越性,针对首饰设计常用计算机辅助设计软件的问题提出一些改进建议。

关 键 词：曲面投影 保角映射 首饰设计 计算机辅助设计软件 

分 类 号：O186.11[理学—数学]