离子束刻蚀机工作台的改造  

The Work Station Transformation of Ion Beam Etching System

作　　者：周洪军[1] 洪义麟[1] 徐向东[1] 陶晓明[1] 霍同林[1] 付绍军[1] 

机构地区：[1]中国科学技术大学国家同步辐射实验室,安徽合肥230026

出　　处：《真空》2000年第5期39-40,共2页Vacuum

摘　　要：合肥国家同步辐射实验室光学元件组现承担 863 -4 16-2子项目“用于激光驱动靶面均匀照明位相片的制造”。在位相片的制造过程中所遇到的关键问题之一是如何使基片上的掩模板中心和基片中心精确对准 ,要求对准台套准误差小于 10μm,重复套准误差小于 2 0μm,刻蚀基片的综合误差小于 30μm,静态真空度小于 1× 10 - 4Pa。为此我们对 L KJ-1C-D-150离子束刻蚀机进行了改造 ,设计了一套三维可调的掩模工作台 ,并对其进行了测试 。The optical element group of NSRL is in charge of a subject of 863 416 2 project entitled 'Fabricating phase plates for well distributed illumination of laser driving target'. In the process of making the phase plates, one challenge is how to align the centers of mask and base. In this paper, the work station of LKJ 1C D 150 Ion Etching System is transformed, a three dimensions adjustable mask work station is designed and the test result is presented.

关 键 词：离子速刻蚀 掩模工作台 真空度 光学元件 制造 

分 类 号：TH74[机械工程—光学工程] TB79[机械工程—仪器科学与技术]